PVDzadanie

PVD - Physical Vapour Deposition - fizyczne osadzanie z fazy gazowej metali lub jonów polega na doprowadzeniu osadzanego trudno topliwego metalu do stanu pary, wykorzystując procesy fizyczne m.in. grzanie oporowe, łukowe, elektronowe, laserowe i osadzeniu go przez naparowanie, napylenie lub rozpylenie na powierzchni zimnego lub podgrzanego podłoża.
Możemy osądzać sam metalu lub związki metalu z gazami (np. azotki, węgliki, borki) wykorzystując zjawiska elektryczne.

Wspólną cechą powłok PVD jest krystalizacja par metali lub faz z plazmy.

Połączenie między powłoką a podłożem ma charakter adhezyjny i jest tym silniejsze, im bardziej czysta jest powierzchnia pokrywana.

Powłoki PVD można podzielić na dwie podstawowe grupy:

Sposoby otrzymywania par

Najważniejszymi własnościami jakimi charakteryzują się powłoki PVD są:


Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
PVDzad

więcej podobnych podstron