PVD - Physical Vapour Deposition - fizyczne osadzanie z fazy gazowej metali lub jonów polega na doprowadzeniu osadzanego trudno topliwego metalu do stanu pary, wykorzystując procesy fizyczne m.in. grzanie oporowe, łukowe, elektronowe, laserowe i osadzeniu go przez naparowanie, napylenie lub rozpylenie na powierzchni zimnego lub podgrzanego podłoża.
Możemy osądzać sam metalu lub związki metalu z gazami (np. azotki, węgliki, borki) wykorzystując zjawiska elektryczne.
Wspólną cechą powłok PVD jest krystalizacja par metali lub faz z plazmy.
Połączenie między powłoką a podłożem ma charakter adhezyjny i jest tym silniejsze, im bardziej czysta jest powierzchnia pokrywana.
Powłoki PVD można podzielić na dwie podstawowe grupy:
Powłoki proste- są to powłoki składające się z jednego materiału stanowiącego jedną warstwę.
Powłoki złożone- powłoki zbudowane z więcej niż jednego materiału.
Sposoby otrzymywania par
Odparowanie metalu lub związku stopionego oporowo, indukcyjnie, elektronowo lub laserowo.
Sublimacja metalu lub związku w wyładowaniu łukowym ciągłym lub impulsowym.
Rozpylanie katodowe lub anodowe metalu lub związku.
Najważniejszymi własnościami jakimi charakteryzują się powłoki PVD są: