Laboratorium badawcze HIXEL jest jedynym w Polsce i unikalnym w skali światowej laboratorium wyposażonym w system laserowo-plazmowych źródeł promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu (EUV) i miękkiego promieniowania rentgenowskiego (SXR) o dużej intensywności opracowanych od podstaw przez Zespół Oddziaływania Promieniowania Laserowego z Materią (ZOPLzM). System bazuje na laserach nanosekundowych Nd:YAG oraz femtosekundowym systemie laserowym Ti:Sapphire, umożliwiając wytwarzanie impulsów promieniowania EUV oraz SXR z częstością 10 Hz. W charakterze tarcz służących do wytwarzania plazmy, wykorzystywane są różne rodzaje impulsowych tarcz gazowych, będących oryginalnym rozwiązaniem zespołu. Źródła promieniowania wyposażone są w kolektory promieniowania EUV/SXR, co pozwala na uzyskanie dużej fluencji oraz gęstości mocy promieniowania w ognisku. W zależności od zakresu widmowego źródła promieniowania wchodzące w skład systemu HIXEL mogą być wykorzystywane do różnych celów związanych z mikro- i nanotechnologią, obrazowania w zakresie EUV/SXR, metrologii optyki rentgenowskiej i EUV oraz w badaniach podstawowych z zakresu astrochemii i astrofizyki.

 

Laserowo – plazmowe źródło promieniowania EUV dedykowane do mikroobróbki i modyfikacji powierzchni polimerów

 

Laserowo – plazmowe źródło promieniowania EUV / SXR

 

 

Laserowo-plazmowe źródło dedykowane do mikroskopii w zakresie EUV i SXR

Zdjęcie i schemat źródła

 

Widma promieniowania generowanego ze źródeł na tarczach argonowych i azotowych