Ćwiczenie T1 _PTW_

MCM034003L

URZĄDZENIA DO WYTWARZANIA WARSTW GRUBYCH

prowadzący: mgr inż. Jan Macioszczyk, ul. Długa 61, bud. M-11, p. 123, e-mail:
[e-mail]

INSTRUKCJA DO ĆWICZENIA LABORATORYJNEGO

1. Cel ćwiczenia:



Zapoznanie z urządzeniami używanymi w technologii grubowarstwowej



Przypomnienie wiadomości z zakresu technologii warstw grubych

2. Zadania do wykonania:



Zapoznanie się z procesem wykonywania sit



Wykonanie masek



Czyszczenie sit



Nakładanie emulsji światłoczułej



Fotolitografia



Zapoznanie się z konstrukcją sitodrukarki



Prezentacja sitodrukarki DEK 1202



Prezentacja sitodrukarki AUREL VS1520A



Zapoznanie się z procesem wypału



Prezentacja pieca komorowego Nabertherm HTC 03/16



Prezentacja pieca taśmowego BTU QA 41-6-54

3. Zagadnienia do przygotowania:



Przebieg procesu wykonywania standardowych warstw grubych



Przygotowanie sit – przebieg, parametry sit



Sitodrukarka – konstrukcja, przebieg i parametry procesu sitodruku



Piece – rodzaje konstrukcji pieców, parametry procesu wypalania

4. Scenariusz (łączny czas wykonania ćwiczenia 135 minut)

- (30 min., sala dydaktyczna) wstęp teoretyczny do zajęć – przedstawienie tematyki
zajęć, omówienie podstawowych zagadnień związanych z urządzeniami do wytwarzania
warstw grubych oraz wytwarzaniem grubowarstwowych układów półprzewodnikowych,
- (30 min., M6) zapoznanie się z procesem wykonywania sit (wykonanie masek,
czyszczenie sit, nakładanie emulsji światłoczułej, fotolitografia),
- (30 min., M11/031) zapoznanie się z konstrukcją sitodrukarki (prezentacja sitodrukarki
DEK 1202 oraz sitodrukarki AUREL VS1520A),
- (30 min., M11/031) zapoznanie się z procesem wypalania (prezentacja pieca
komorowego Nabertherm HTC 03/16 oraz pieca taśmowego BTU QA 41-6-54),
- (15 min., sala dydaktyczna) podsumowanie zajęć.

5. Literatura:
Wykłady, PTW, prof. dr hab. inż. Leszek Golonka,
A.

Dziedzic, L. Golonka, B. Licznerski, B. Morten, M. Prudenziati, „Technika

grubowarstwowa i jej zastosowania”, Skrypt, Wrocław 1998,

L. Golonka, „Zastosowanie ceramiki LTCC w mikroelektronice”, Oficyna Wydawnicza PWr, 2001