Ściąga Oze laborki, kolos

1. Płaszczyzna pracy – pł. pozioma, pionowa lub pochyła, na której znajdują się najważniejsze szczegóły przedmiotów pracy wzrokowej i na której określa się i mierzy wskaźniki oświetlenia.

2. Umowna płaszczyzna pracy – pł. pozioma, do której odnosi się wartość wsrt ośw dziennego i równomierności ośw. Jeżeli pł pracy nie jest wyraźnie określona. W zależności od sposobu wykonywania czynności w projektowanym pom. za umowną pł. pracy należy przyjmować:

-pł poziomą na wysokości 0,85 m nad podłogą - gdy prace są wykonywane na stołach, obrabiarkach itp. urządzeniach,

-pł na poziomie podłogi - gdy nie przewiduje się stanowisk dla wykonywania stałych czynności (np. w magazynach) oraz w salach wypoczynkowych, korytarzach, przedsionkach, na klatkach schodowych. margines określa odległość od ściany siatki obliczeniowej.

3. Rodzaje Otwór świetlnych:

Okno – otwór dla św dziennego w pio lub prawie pio pow ograniczającej pow; Świetlik – otwór dla światła dziennego w dachu lub poz pow budynku; Przeszkoda – cokolwiek na zewnątrz budynku co przesłania bezpośredni widok części nieboskłonu; Przesłona słoneczna – urządzenie przeznaczone do przesłaniania, zmniejszania lub rozpraszania promieniowania słonecznego.

4.Stała słoneczna jest to znikoma część energii wypromieniowanej przez słońce, która dociera do granicy atmosfery, jej strumień ma moc 1,39 kW/m2.

5. Promieniowanie bezpośrednie – część promieniowania po przejściu przez atmosferę w postaci promieniowania jednokierunkowego dochodzącego do powierzchni ziemi.

6. Promieniowanie rozproszone jest to część promieniowania, która po zmianach kierunku, ugięciach i odbiciach w atmosferze dociera pow ziemi. Prom wielokierunkowe dochodzące z całego nieboskłonu.

7. Czynniki wpływające na luminancję nieboskłonu

poł elementu nieboskłonu w stosunku do horyzontu oraz w stosunku do słońca; stan atmosfery tj, stopień i rodzaj zachmurzenia oraz stopień zanieczyszczenia atmosfery.

8. Światło naturalne jest to światło docierające do wnętrza pochodzące od tarczy słońca, nieboskłonu oraz odbić od przylegającego terenu i sąsiednich budynków.

9. Natężenie oświetlenia – określa gęstość pow strum świetlnego podającego na pewną pow i mierzy się stosunkiem wielkości tego strumienia do wielkości oświetleniowej powierzchni. W zależności od nierównomiernego lub równomiernego rozprzestrzeniania się strum św; E=dϕ/dF lub E=ϕ/F, [lux] odpowiadający natężeniu ośw panującemu na pow 1m^2, na której rozprzestrzenia się strum św 1 lumena.

10. Odniesieniowy poziom natężenia oświetlenia

przyjęto poziom odniesienia jako 5000 lx biorąc po uwagę tylko promieniowanie nieboskłonu. Wysokość poz odniesieniowego decyduje o min wielkościach otworów świetlnych w budynkach.

11. Właściwości fotometryczne powierzchni:

Odbicie–jest odrzuceniem promieni przez pow lub ośrodek bez zmiany częstotl jego składowych monochromatycznych; Przepuszczanie–prom przechodzi przez środek lub materiał bez zmiany częstotl jego składowych monochromatycznych; Rozpraszanie–jest, zjawiskiem, pod wpływem, którego ulega zmianie rozkład przestrzenny wiązki prom, odchylanej w wielu kierunkach przez pow lub ośrodek bez zmiany częstotl jego składowych monochromatycznych; Pochłanianie, absorbcja-przem energii promienistej w inną energię w wyniku wzajemnego oddziaływania z materią.

12. Współczynnik odbicia jest stosunkiem strum świetlnego odbitego do strum św padającego

13. Współczynnik przepuszczania jest to stosunek strumienia świetlnego przepuszczonego do strum św padającego

14.Współczynnik pochłaniania jest ilorazem strum św pochłoniętego do strum św padającego.

15.Odbicie kierunkowe- promień padający, odbity i normalna do pow w punkcie odbicia leżą na jednej w jednej pł. Kąty padania i odbicia mierzone pomiędzy promieniem padającym a normalną są sobie równe. Prom odbite zachowują się jak wiązka promieni padających.

16.Odbicie rozproszone-prom są odbijane w wielu kierunkach. Odbicia kierunkowe w skali makro nie występują. Światło odbite rozchodzi się we wszystkich kierunkach w obrębie kąta bryłowego 2π lub mniejszego. Ale zawsze większego od kąta, w którym jest zawarta wiązka światła padającego.

17. Odbicie kierunkowo-rozproszone-odbicia częściowo kier i częściowo rozproszone. Przewaga jadanego z tych odbić decyduje o kształcie bryły fotometrycznej św odbijanego. Strum odbity ma zawsze większą objętość niż strum padający

18. Czas trwania nasłonecznienia- suma przedziałów czasu w danym okresie podczas, których nat napromieniowania do prom słonecznego bezpośredniego na pł prostopadłej do kierunku promieni słonecznych jest równa lub większa od 200 W/m2.

19. Współczynnik oświetlenia dziennego, w % - miara względnego natężenia ośw dziennego w danym punkcie danej pł, wyrażona stosunkiem nat ośw w tym punkcie wnętrza do równocześnie występującego nat ośw w otwartej przestrzeni na pł poz, pochodzącego od całkowitego, nie zasłoniętego nieboskłonu o założonym lub znanym rozkładzie luminancji.

20.Oświetlenie dzienne mieszane - ośw wnętrza przez świetliki i okna łącznie.

21. Równomierność oświetlenia dziennego- stosunek wartości najmniejszej wartości wsp ośw dziennego do wartości największej wsp ośw dziennego, występujących w strefie roboczej pomieszczenia.


Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
sciaga elektra laborki
ściąga ochrona Laborki, studia calosc, studia całość, oś, Ochrona srodowiska macuda materialy
Ściąga ochrona środowika kolos zaliczeniowy
ściąga metro elektr kolos
Ściąga na laborki
ściąga systematyka II kolos, Semestr 1, zoologia, materiały
sciąga kwasy nukleidowe kolos 3, Zootechnika, Biochemia
opisy proceców, IŚ Tokarzewski 27.06.2016, V semestr ISiW, Technologie oczyszczania ścieków, laborki
kolos-lab scieki, IŚ Tokarzewski 27.06.2016, V semestr ISiW, Technologie oczyszczania ścieków, labor
fiz skal - sciaga[1], 3 semestr, laborki z fizyki skał i gruntów
fiz[1][1]. wlasc. skal - sciaga, 3 semestr, laborki z fizyki skał i gruntów
ściąga elektornika -laborka II, Politechnika Gdańska ETI Informatyka Niestacjonarne, Sem I, Podstawy
uzupelnione notatkiTOWIS lab, IŚ Tokarzewski 27.06.2016, V semestr ISiW, Technologie oczyszczania śc
Ściaga OU laborki, Studia, ZiIP, SEMESTR VI, Obróbka ubytkowa
LABORKI KOLOS (2), (PCz) POLITECHNIKA CZĘSTOCHOWSKA, Grunty, Materiały na kolosa
LABORKI KOLOS(2), (PCz) POLITECHNIKA CZĘSTOCHOWSKA, Grunty, Materiały na kolosa
LABORKI KOLOS(1), (PCz) POLITECHNIKA CZĘSTOCHOWSKA, Grunty, Materiały na kolosa

więcej podobnych podstron