Slajd 2

Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) to proces nanoszenia warstw przy obniżonym ciśnieniu - w zakresie 10÷10-5 Pa, w których ich wzrost zachodzi z cząsteczek fazy gazowej (pary) otrzymanej metodami fizycznymi.

Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD) to proces wytwarzania warstw węglików i azotków metali, ze składników atmosfery gazowej na powierzchni obrabianego przedmiotu. Składniki atmosfery mogą być aktywowane cieplnie lub plazmą. W procesie tworzenia warstwy biorą udział składniki podłoża.

Slajd 3

Urządzenie do osadzania powłok metodami PVD

1- klosz

2-elektrody

3- napylane elementy

4- płyta podstawy

5- doprowadzenie prądu do zasilania elektrod

6- wyjście do pomp próżniowych

7- płyta wzorcowa do oceny procesu napylania

Slajd 4

Wiertła	650
Wiertła z węglikiem	420
Wiertła specjalne	950
Gwintowniki	300
Narzynki	550
Noże tokarskie	250
Frezy	500
Frezy tarczowe	800

---