Optymalizacja procesów chemicznych i elektrochemiczne procesy produkcyjne, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 7, Różne przydatne


Optymalizacja procesów chemicznych i elektrochemiczne procesy produkcyjne

Ćw 1b - Karty kontrolne

1. Otrzymano serię wyników pomiarowych z przykładowego procesu technologicznego. Na ich podstawie obliczono rozstęp i średnią arytmetyczną.

Nr danych: 7

 

x1

x2

x3

x4

x5

średnia

rozstęp

1

9,957

9,984

10,273

10,142

10,109

10,093

0,316

2

9,965

10,011

9,81

10,057

9,737

9,916

0,32

3

9,989

10,063

10,148

9,826

10,041

10,0134

0,322

4

9,983

9,974

9,883

10,153

10,092

10,017

0,27

5

10,063

10,075

9,988

10,071

10,096

10,0586

0,108

6

9,767

9,994

9,935

10,114

9,964

9,9548

0,347

7

9,933

9,974

10,026

9,937

10,165

10,007

0,232

8

10,227

10,517

10,583

10,501

10,293

10,4242

0,29

9

10,022

9,986

10,152

9,922

10,101

10,0366

0,23

10

9,845

9,9

10,02

9,75

10,088

9,9206

0,338

11

9,956

9,921

10,132

10,016

10,109

10,0268

0,211

12

9,876

10,114

9,938

10,195

10,01

10,0266

0,319

13

9,932

9,856

10,085

10,207

10,146

10,0452

0,351

14

10,016

9,99

10,106

10,039

9,948

10,0198

0,158

15

9,927

10,066

10,038

9,986

9,871

9,9776

0,195

16

9,952

10,056

9,948

9,802

9,947

9,941

0,254

17

9,941

9,964

9,943

10,085

10,049

9,9964

0,144

18

10,01

9,841

10,031

9,975

9,88

9,9474

0,19

19

9,848

9,944

9,828

9,834

10,091

9,909

0,263

20

9,321

9,256

9,19

9,289

9,178

9,2468

0,131

21

9,257

9,1

9,098

9,09

9,132

9,1354

0,167

Średnia ze średnich: 9,939

Średnia z rozstępów: 0,250

Następnie obliczono górną i dolną granicę kontrolną oraz linię centralną dla rozstępu na podstawie wzorów zamieszczonych w instrukcji.

Dane karty kontrolnej rozstępu:

Górna granica kontrolna: 0,519

Dolna granica kontrolna: 0

Linia centralna: 0,246

Dane karty kontrolnej średniej:

Górna granica kontrolna: 10,080

Dolna granica kontrolna: 9,797

Linia centralna: 9,939

Wykreślono karty kontrolne analizowanych wielkości:

0x01 graphic

0x01 graphic

Z karty kontrolnej średniej wynika, że proces nie jest statystycznie uregulowany. Aby dokonać tej regulacji, usunięto z danych punkty wykraczające poza granice kontrolne. Następnie ponownie obliczono granice kontrolne i linie centralną dla karty rozstępu oraz średniej.

Średnia ze średnich: 9,989

Średnia z rozstępów: 0,250

Dane karty kontrolnej rozstępu (poprawione):

Górna granica kontrolna: 0,529

Dolna granica kontrolna: 0

Linia centralna: 0,250

Dane karty kontrolnej średniej (poprawione):

Górna granica kontrolna: 10,133

Dolna granica kontrolna: 9,845

Linia centralna: 9,989

Ponownie wykreślono karty kontrolne analizowanych wielkości:

0x01 graphic

Na karcie średniej wykreślono dodatkowo linie ostrzegawcze oraz przeprowadzono 8 testów w celu znalezienia dodatkowych nieprawidłowości wpływających n rozregulowanie procesu.

0x01 graphic

Wszystkie 8 testów wypadły negatywnie. Na tej podstawie wnioskuje się, że proces jest statystycznie uregulowany.

Obliczono wskaźnik PCI na podstawie następujących danych:

d2: 2,326

UTL: 10,12

LTL: 9,65

S: 0,108

PCI: 0,00842



Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
[BAT] BAT dla procesów rafineryjnych, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 6, BAT-y egzamin
strona tytułowa projektu inżynierskiego pwr, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 7, Różne pr
HarmonOptProcChem, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 7, Różne przydatne
sprawko z polimerow od Agi, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 7, Różne przydatne
TEST OGÓLNY, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 7, Różne przydatne
Procesy utleniania-utlenianie ksylenów, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 5, Technologia C
ćw B Procesy utleniania-utlenianie ksylenów, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 5, Technolo
Cholewa,organizacja i optymalizacja procesów produkcyjnych, potencjalne wady części składowych maszy
sprwko, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 2, Elektronika, elektronika lab, sprawka elektro
sprawozdanie nr 5 (ćw3)(2), Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 2, Elektronika, elektronika
elektrotechnika - prad staly - poprawa, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 2, Elektronika,
sprawozdanie nr 5 (ćw3)(2)(2), Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 2, Elektronika, elektroni
StacjonarneBAT pytania egzamin2013-KW, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 6, BAT-y egzamin
Technologia chemiczna org-zagadnienia, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 5, Technologia ch
REAKCJA ALKILOWANIA IV-RZĘDOWYCH SOLI AMONIOWYCH, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 5,
Harmonogram kursu Analiza Techniczna 2012-2013, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 5, Anali
BAT STACJONARNE JT, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semestr 6, BAT-y egzamin
1310 544ae Technologia chemiczn - surowce - egzamin 2012, Uczelnia PWR Technologia Chemiczna, Semest

więcej podobnych podstron