30112010(003)

30112010(003)



Politechnika Wrocławska

Grafika Inżynierska - Podstawy Inżynierii

Tolerowanie wymiarów

Odchyłka górna (ES dla wy miaru wewnętrznego i bs dla wymiaru zewnętrznego)

ES=es = B-N

Odchyłka dolna (El dla wymiaru wewnętrznego i ei dla wymiaru zewnętrznego) Jest to różnica między dolnym wymiarem granicznym, a wymiarem nominalnym.

eł = A - N

Pole tolerancji T to obszar zawarty między górnym i dolnym wymiarem granicznym.

T ~ B- Ą=es - ei=ES-.El

"Wm

PP 1

.. u

m

' faih In

<?#=? ■' LJ

f

■ v#u.

H ••

MY-

\

. . .

y Z.; ,jy


Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
30112010(004) Politechnika WrocławskaGrafika inżynierska - Podstawy InżynieriiPasowanie wymiarów Pas
30112010(002) Politechnika WrocławskaGrafika Inżynierska - Podstawy Inżynierii -__Tolerowanie wymiar
30112010(001) Politechnika Wrocławska:Grafika Inżynierska - Podstawy Inżynierii Tolerowanie wymiarów
Politechnika WrocławskaGrafika Inżynierska - Podstawy InżynieriiTolerowanie wymiarów (hvmiar nominal
23112010(003) Politechnika WrodawstóŚrGrafika Inżynierska - Podstawy Inżynierii C= (D-d)/7 = 2tg(a/2
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej Tunel wodny model 24
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej Ostatnio zrealizowan
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej Ostatnio zrealizowan
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej ORGANIZACJA KSZTAŁCE
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej GŁÓWNY CEL
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej PRZEDMIOTY
Politechnika WrocławskaKatedra Inżynierii Kriogenicznej, Lotniczej i Procesowej BAZA DYDAKTYCZNA Baz

więcej podobnych podstron