IMG201112126

14. ŁAPY I PODPORY

Łata w tanie aparatów chemicznych na fundamentach odbywa się za pośrednictwem tąp i podpór. Jedynie aparaty z płaskim dnem pracujące pod niewielkim ciśnieniem hydrostatycznym ustawia się beapośrednio na fundamencie. Dopuszczalne naciski na fundament w zależności od rodzaju materiału podaje tablica 14.1.

Tablica 14.1

Średni    Mrt«l m pnwtfmhnłf fundamentu

			nmdmj	bredni dopuszczalny docisk powierzchniowy P* [N/m^3]
I		0t	I ImMi H llO	< 2,0 • 10*
1 **** 1_			1 0M i	< 100,0 • 10*

Łatpy iptntoe daeoMcmjncfc są znormalizowane, w pewnych przypadkach jednak znehodas komoamofc: tamodndnt^i zaprojektowania łap i podpór. Konstrukcje podpór raiaolnint można podsidż m podpory aparatów pionowych i poziomych.

14.1. Podpory aparatów pionowych

Na rys. 14.1 przedstawiono zasadnicze typy podpór aparatów pionowych. Podpory typa I—III stosowane są w przypadku ustawienia aparatów na fundamencie ■rewoątrz pomieszczenia przy stosunku HjD_z pś 5, przy czym dla podpory typu III winno być D_m ^ 1000 [mm]. Podpory IV—-V przy ustawieniu aparatów na posadzce, podpory VI - IX przy podwieszaniu aparatów. Podpory typu I—V umieszcza się od Ipodu aparatu i przeznaczone są do aparatów cylindrycznych, podpory typu VI ;-1X mmmBKsaac są z boku aparatu i przeznaczone są zarówno do aparatów cylindry ęz-lyęłt. jak i prostokątnych. Konstrukcje podpór typu IV, V, VI, VIII, IX noszą nazwę

129