ł\S I WI 'kr'JA kii? Mft 2006/07
Cel ćwiczenia: Pomiar i analiza charakterystyk statycznych tranzystorów potowych różnych typów pracujących «> układzie wspólnego źródła (WS). Zapoznanie studentów z możliwościami wyznaczenie na podstawie charakterystyk statycznych parametrów określających podstawowe właściwości tranzystora potowego.
A)Zadania do samodzielnego opracowania przed zajęciami:
Zapoznanie się z treścią instrukcji. Zapoznanie się z teoretycznymi podstawami działania tranzystorów potowych oraz ich nazewnictwem. Opracowanie schematów układów do pomiam charakteiystyk statycznych.
B) WPROWADZENIE
lnPn I |pnp |
POLOWE (UNIPOLARNE) FET
z. i solo watą branką
| Złączowe |
z kaiałem |
z kanałem |
typu n |
_frpup |
z indukowanym kanałem
sp eg alny di zastosowań (np TFT) i
ek sp eiy mm taln e
z wbudowanym kanałem |
z kanałem typu p
* | ||
□ |
I z kanałem typu p 1 | |
| z kanałem typu n 1
| z kanałem typu n |
manl-tlaiek-
•pólprzewodnik
/MOSFET/
I
Ry* 1 Cfeólny podział tranzystorów.
Tramy sto ty JFET (Junction Fidd - Efifect Tran sistor) to trai 'ty stoiy wktóiydi oddaełenicbrarrki od kaiału jes* wykon ai e za pośrednictwem zaporowo spola^rowaięgo złącza p-n.
ftys. 2 Traiay stor połowy rfącaowy zkaiałem typu n. a) szkic stniktuiy; b) wpływ ząjorowg polary zagi złącza p -n na przewodzenie w kanale c) sytuagadlaUos= Up c^lidlaoddędakaiału.
Rys. 3 Wpływ napięcia Uds na kształt obszaru warstw zaporowych, a) Uds < |Upj, b) Uds " |UP|, c) Uu8> |Up|. Pomimo „zetknięcia” warstw zaporowych, prąd drenu jest niezerowy, przy wzroście Uds utrzymuje się na niemal stałym tym samym poziomie
Rys. 4 Charakterystyki wyjściowe Id = (Uds) ' przejściowe Id = (Uos) tranzystora JFET z kanałem typu n w układzie ze wspólnym źródłem. Parametry tego tranzystora. UP = -4V oraz Idss " 32 mA.
Tra n zy sto ly typu MOS FET (na przykładzie tranzystora z indukowanym kanałem n) Tranzystory w których bramka jest odizolowana od kanału cienką warstwą izolatora, (najczęściej dwutlenek krzemu), noszą nazwę tranzystorów potowych z izolowaną bramką MOSFET (Metal - Oxide-Semiconductor Field Eflect Transistor), MIS (Metal-lnsulator-Sciniconductor) albo IGFET (Insulated Gate Field - Eftecł Transistor). Kanał powstaje w wyniku oddziaływania pola elektrycznego przyłożonego pomiędzy bramkę i podłoże
Rys. 5 Budowa tranzystora polowego MOSFET z indukowanym kanałem n Gdy Uos > 0 pole elektryczne powoduje odepchnięcie dziur od powierzchni granicznej izolator-podłoże i przyciągnięcie mniejszościowych elektronów Jest to inwersja półprzewodnika
ID[mA]
Rys. 6 Charakterystyki wyjściowa i przejściowa tranzystora polowego z indukowanym kanałem typu n.
2
i
i*- .