256 (50)

256 (50)



- 256


tranzystor bipolowy

warstwy zaporowej złączą C-B. Odległość między tymi krawędziami będziemy nazywać szerokością efektyumą bazy i oznaczymy jako WB (rys. 5.16).

Podstawowym równaniem problemu jest równanie prądu elektronów w bazie, które w postaci ogólnej zawiera składową unoszenia i dyfuzji

Jn=q/XnnbE+qDn^    (5.14)

Równanie to rozwiążemy najpierw dla dwu skrajnie uproszczonych przypadków, tj. uwzględniając albo tylko składową unoszenia (tak przyjmowaliśmy w dotychczasowym opisie działania tranzystora dryftowego), albo tylko składową dyfuzji (tak jest w tranzystorze bezdryftowym). Następnie rozwiążemy równanie (5.14) w postaci ogólnej.

Przypadek pierwszy (tylko unoszenie)

Jn = (llt„nbE    (5.15)

W stanie ustalonym można przyjąć, że gęstość prądu J„ jest wielkością stalą, niezależną od współrzędnej x (pomija się wypływ rekombinacji w bazie) i prawie dokładnie równą gęstości prądu emitera (J„ x JE). Natężenie pola E pochodzi od pola wbudowanego w bazie, określonego wrzorem (por. p. 1.9)

Ewb — <Pt


1 dNA Na dx


(5.16)


Profil koncentracji domieszek w bazie można w przybliżeniu zapisać funkcją wykładniczą

NA(z) =    (0) exp


(5.17)

Stałą rj wyznacza się podstawiając z = WB do (5.17)

V


= ln


NA(0)


(5.18)‘>


Podstawiając (5.17) do (5.16) otrzymuje się

Ewb


V<Pt


(5.19)


Natężenie pola elektrycznego wybudowanego w bazie nie zależy od współrzędnej x, a ponieważ J„ również nie zależy od współrzędnej x, więc po podstawieniu (5.19) do (5.15) otrzymuje się stałą wartość koncentracji nb w całym obszarze bazy


nb= -


J„wb

<1W<PT


(5.20)


Uwzględniając, że prąd J„ ma znak ujemny (jest to prąd skierowany przeciwnie do dodatniego zwrotu osi z) oraz biorąc pod uwagę zależność Einsteina (<pT= D„lnn)


\Jn

qD„


(5.21)


l

Często w literaturzo wprowadza się stałą = — ln ry, a inno komplikuje.


Na( 0)


co upraszcza niektóre wzo-



Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
285 (35) - 285Praca nieliniowa statyczna szerzania się warstwy zaporowej złącza baza-kolektor. Jeżel
skanuj0032 ładunku Q jest odwrotnie proporcjonalny do kwadratu odległości miedzy tymi ładunkami. Pra
skanuj0032 ładunku Q jest odwrotnie proporcjonalny do kwadratu odległości miedzy tymi ładunkami. Pra
Przedstaw mechanizm powstawania złącza p - n .Wyjaśnij pojęcia: bariera potencjału! warstwa zaporowa
Stronyh 69 wych płyną prądy Ix = 20 A i /2 = 40 A. Odległość między osiami przewodów a — 50 cm, zwro
KTUNB4 Fot 49. Widok ogólny - widoczny znaczny ubytek warstwy ścieralnej Fot. 50. Szczegół ubytku w
www wymarzonyogrod pl 2 pod tolią na betonie warto położyć warstwę ochronną z włókniny odległość od
50 G. Krzan są skorelowane. Stopień korelacji zależy od odległości między odbiornikami [4]. Minimaln
odległości miedzy dylatacjami Odległości pomiędzy dylatacjami w różnych warstwach stropodachu: Rod
DSC00261 (20) FOTOMETR BUNSENA elektryczną. Gdy fbtoelement oświetlimy, w warstwie zaporowej powstaj
Buddyzm 2 7 256 Buddyzm ne, niższej lub wyższej rangi, odlegle lub bliskie, cale (wszelkie) to uczuc
warstwa Pojedynczych1 DRZEW o WY3. 50-?0nn nf■ WARSTWA PRZE W O WY5. 30- 40m ko-ronu drzew
Laboratorium Elektroniki cz I 3 102 3. Konduktancja wejściowa gb - jest to konduktancja spolaryzow

więcej podobnych podstron