- 256
warstwy zaporowej złączą C-B. Odległość między tymi krawędziami będziemy nazywać szerokością efektyumą bazy i oznaczymy jako WB (rys. 5.16).
Podstawowym równaniem problemu jest równanie prądu elektronów w bazie, które w postaci ogólnej zawiera składową unoszenia i dyfuzji
Jn=q/XnnbE+qDn^ (5.14)
Równanie to rozwiążemy najpierw dla dwu skrajnie uproszczonych przypadków, tj. uwzględniając albo tylko składową unoszenia (tak przyjmowaliśmy w dotychczasowym opisie działania tranzystora dryftowego), albo tylko składową dyfuzji (tak jest w tranzystorze bezdryftowym). Następnie rozwiążemy równanie (5.14) w postaci ogólnej.
Przypadek pierwszy (tylko unoszenie)
Jn = (llt„nbE (5.15)
W stanie ustalonym można przyjąć, że gęstość prądu J„ jest wielkością stalą, niezależną od współrzędnej x (pomija się wypływ rekombinacji w bazie) i prawie dokładnie równą gęstości prądu emitera (J„ x JE). Natężenie pola E pochodzi od pola wbudowanego w bazie, określonego wrzorem (por. p. 1.9)
Ewb — <Pt
1 dNA Na dx
(5.16)
Profil koncentracji domieszek w bazie można w przybliżeniu zapisać funkcją wykładniczą
NA(z) = (0) exp
(5.17)
Stałą rj wyznacza się podstawiając z = WB do (5.17)
V
= ln
(5.18)‘>
Podstawiając (5.17) do (5.16) otrzymuje się
Ewb
V<Pt
(5.19)
Natężenie pola elektrycznego wybudowanego w bazie nie zależy od współrzędnej x, a ponieważ J„ również nie zależy od współrzędnej x, więc po podstawieniu (5.19) do (5.15) otrzymuje się stałą wartość koncentracji nb w całym obszarze bazy
nb= -
(5.20)
Uwzględniając, że prąd J„ ma znak ujemny (jest to prąd skierowany przeciwnie do dodatniego zwrotu osi z) oraz biorąc pod uwagę zależność Einsteina (<pT = = D„lnn)
(5.21)
l
Często w literaturzo wprowadza się stałą = — ln ry, a inno komplikuje.
Na( 0)
co upraszcza niektóre wzo-