Rys. 6.36
Schemat zastępczy tranzystora MIS dla małych sygnałów dużej częstotliwości: a) uproszczony; b) dokładny; c) przekrój struktury tranzystora, na którym pokazano elementy schematu zastępczego
W zakresie bardzo dużych częstotliwości stosuje się model przedstawiony na rys. 6.36b. W celu fizycznej interpretacji tego modelu zamieszczono ilustrację schematyczną przekroju tranzystora MIS (rys. 6.36c) ze wskazaniem umiejscowienia poszczególnych elementów tego modelu.
Częstotliwość graniczną idealnego tranzystora MIS wyznacza się w taki sam sposób jak dla tranzystora PNFET
y*\Ugs~ Ut\ ~ 2tzL2
(6.95)
W tranzystorze rzeczywistym częstotliwość graniczna jest mniejsza, niż wynika z tej zależności, gdy istotny wpływ mają pojemności zewnętrzne (Cgse, C^e).
Tranzystory MESFET z arsenku galu, produkowane na świecie od 1968 r.1', w ostatnich kilku latach zdobyły trwałą pozycję jako elementy wzmacniające w zakresie częstotliwości kilku do kilkunastu gigaherców. Schematyczny przekrój tranzystora MESFET przedstawiono na rys. 6.37. Na półizolacyjnym podłożu (prawie samoistnym arsenku galu) jest wytwarzana warstwa epitaksjalna
Au Ge Au
7Bariera \ Warstwa ( hottky'ego \zubożona)
Warstwa
epitaksjalna
Rys. 6.37
Schematyczna ilustraoja budowy tranzystora MESFET z arsenku galu
Podłoże pólizolacyjne
11 Pierwszym wytwórcą tych tranzystorów była firma IBM, a obecnie są one wytwarzane głównie w firmach: IBM, Hewlett Packard, Plessey, Watkins-Johnson.
26‘