1492316727

Projekt Wykonawczy Wnętrz laboratorium informatycznego gmachu Wydziału Elektroniki i Technik Informacyjnych Politechniki Warszawskiej

Informacja o inwestorze

Inwestorem jest Politechnika Warszawska, Wydział Elektroniki i Technik Informacyjnych mieszczący się przy ul. Nowowiejskiej 15/19 w Warszawie

Przedmiot inwestycji

Przedmiotem inwestycji jest adaptacja pomieszczeń znajdujących się na parterze budynku, pod aulą główną na pomieszczenia laboratorium informatycznego.

Podstawa opracowania

Niniejszy projekt został sporządzony na zlecenie Inwestora i w oparciu o Jego wytyczne.

PROJEKT OPRACOWANO ZGODNIE Z OBOWIĄZUJĄCYMI PRZEPISAMI POLSKIEGO PRAWA BUDOWLANEGO

Stan istniejący

Obecnie pomieszczenia przeznaczone do adaptacji są częściowo wykorzystywane jako pomieszczenia sprzątaczek, magazyny, część przestrzeni pozostaje niezagospodarowana.

Charakterystyka funkcjonalna wnętrza

Przestrzeń objętą projektem planuje się podzielić na 3 główne części: 2 sale laboratoryjne, oraz sekretariat z poczekalnią. Pomieszczenia na tyłach sal laboratoryjnych, pod schodami auli planuje się wykorzystać jako pomieszczenia magazynowe i gospodarcze.

Zestawienie powierzchni:

pom.	01	- poczekalnia	- 17,00m2
pom.	02	- sekretariat	- 7,29m2
pom.	03	- laboratorium 1	-63,00m2 (pow. użytkowa 58,17m2)
pom.	04	- laboratorium 2	- 89,00m2 (pow. użytkowa 84,1m2)
pom.	05	- magazyn	- 15,26m2 (pow. użytkowa 9,3m2)
pom.	06	- pom gospodarcze	- 14,38m2 (pow. użytkowa 7,19m2)

Suma powierzchni:    - 205,93m2 (pow. użytkowa 183,05m2)

W sali laboratorium 1 przewiduje się 12 stanowisk komputerowych, w sali laboratorium 2 zaprojektowano 16 stanowisk (z możliwością dostawienia dodatkowego 17-go stanowiska)

Rozwiązania materiałowe

Ściany

Ściany systemowe szklane

Ściana systemowa szklana oddziela przestrzeń objętą projektem od korytarza (SS-3, SS-4, SS-5) oraz pomieszczenia sekretariatu i poczekalni od sali laboratorium 1 (SS-1, SS-2). Ściany SS-3, SS-4, SS-5 zamontowane są w miejscu istniejącej ścianki szklanej, nie posiadającej wystarczającej izolacyjności