1. Sieć krystalograficzna A3 jest oparta na układzie krystalograficznym:
heksagonalnym
regularnym
trójskośnym
2.Wymiana elektronów jest podstawą wiązania:
kowalencyjnego
jonowego
wodorowego
3.W strukturach krystalicznych metali występują luki międzywęzłowe:
czterościenne
sześciościenne
ośmiościenne
4.Stopy metaliczne mogą być roztworami stałymi:
różnowęzłowymi międzywęzłowymi
bezwęzłowymi
5.Obwody magnetyczne i magnesy trwałe wykonuje się z:
antyferromagnetyków diamagnetyków
paramagnetyków
6.Materiał magnetyczny twardy powinien mieć dużą wartość:
stratności
indukcji remanencji należenia koercji
7.Stal krzemowa zimnowalcowana jest:
diamagnetykiem
ferromagnetykiem
ferrytem
8.Temperaturowy współczynnik rezystancji metali jest:
dodatni
ujemny
zerowy
9.Napylanie katodowe stosuje się przy wytwarzaniu układów scalonych:
hybrydowych cienkowarstwowych
monolitycznych
hybrydowych
grubowarstwowych
1O. Materiały na rezystory precyzyjne powinny mieć małą wartość:
rezystywności
TWR siły termoelektrycznej
11.Elektrony są większościowymi nośnikami ładunku w półprzewodniku domieszkowanym:
donorowo
akceptorowo
niedomieszkowanym
l2. Do metod domieszkowania materiałów półprzewodnikowych zalicza się:
implantację
topienie
strefowe
transmutacje
13.Epitaksję z fazy gazowej oznacza się w skrócie:
MBE
VPE
LPE
14.Złącze p-n jest podstawowym elementem:
warystora
fotodiody
termistora
15.Przewodność elektryczna dielektryków ma przede wszystkim charakter:
elektronowy
jonowy
dipolowy
16.Rezonansowa i bezstratna jest polaryzacja:
dipolowa
elektronowa
atomowa
1.Sieci krystalograficzne Al i A2 są oparte na układzie krystalograficznym:
heksagonalnym
regularnym
trójskośnym
2.Wymiana elektronów jest podstawą wiązania:
kowalencyjnego
jonowego
wodorowego
3.W strukturach krystalicznych metali występują luki międzywęzłowe:
czterościenne
sześciościenne
ośmiościenne
4.Dyslokacja krawędziowa w materiałach krystalicznych jest defektem:
punktowym
liniowym
powierzchniowym
5.0bwody magnetyczne i magnesy trwale wykonuje się z:
antyferromagnetyków diamagnetyków paramagnetyków
6.Material na magnesy trwale metaliczne to:
czyste żelazo stal
hartowana
stal
krzemowa zimnowalcowana
7.Koniecznym składnikiem materiałów magnetycznych ferrytowych jest:
FeO
Fe203
NiO
8.Temperaturowy współczynnik rezystancji metali jest:
dodatni
ujemny
zerowy
9.Technologię sitodruku stosuje się przy wytwarzaniu układów scalonych:
hybrydowych cienkowarstwowych
monolitycznych
hybrydowych grubowarstwowych
1O. Kanthal i superkanthal to materiały na rezystory:
techniczne precyzyjne
grzejne
11. Elektrony są większościowymi nośnikami ładunku w półprzewodniku domieszkowanym:
donorowo
akceptorowo
niedomieszkowanym
12. Podstawową metodą oczyszczania materiałów półprzewodnikowych jest:
implantancja
topienie strefowe
transmutacja
13. Epitaksję z zastosowaniem związków metaloorganicznych oznacza się w skrócie:
MBE CVD
MOCVD
14. Złącze p-n jest podstawowym elementem:
warystora
fotodiody
termistora
15. Przewodność elektryczna dielektryków ma przede wszystkim charakter:
elektronowy
jonowy
dipolowy
16. Na straty w dielektrykach przy napięciu przemiennym ma wpływ ich:
przewodność
indukcyjność
polaryzacja
2. Wiązania międzyatomowe metaliczne polegają na:
polaryzacji cząsteczek uwspólnieniu
elektronów
wymianie elektronów
3. W strukturach krystalicznych metali występują luki międzywęzłowe:
dwuścienne
czterościenne
ośmiościenne
4. Dyslokacja krawędziowa w materiałach krystalicznych jest defektem:
punktowym
liniowym
powierzchniowym
5. Obwody magnetyczne i magnesy trwałe wykonuje się z materiałów:
f
erromagnetycznych
ferrimagnetycznych
paramagnetycznych
6. Materiał magnetycznie miękki powinien mieć małą wartość:
stratności
indukcji
nasycenia
natężenia koercji
7. Koniecznym składnikiem materiałów magnetycznych ferrytowych jest:
FeO
Fe203
NiO
8. Przewodność elektryczna metali ma charakter:
pozytonowy
elektronowy
jonowy
9. Na połączenia przewodzące w układach elektronicznych scalonych stosuje się:
aluminium
miedź
karborund
10. Kanthal i superkanthal to materiały na rezystory:
techniczne precyzyjne
grzejne
11. Dziury są większościowymi nośnikami ładunku w półprzewodniku domieszkowanym:
donorowo
akceptorowo
niedomieszkowanym
12. Topnienie strefowe materiałów półprzewodnikowych wiąże się z ich:
odparowaniem
oczyszczaniem
domieszkowaniem
13. Epitaksję z zastosowaniem związków metaloorganicznych oznacza się w skrócie:
MBE CVD
MOCVD
14. Temperaturowy współczynnik rezystancji materiałów półprzewodnikowych jest:
dodatni
ujemny
zerowy
15. W dielektrykach mogą występować następujące rodzaje polaryzacji:
dipolowa
atomowa