OWI PYANIA, Studia Politechnika, Semestr VII, Ochrona Własności Intelektualnej, Wykłady


Zaliczenie z OWI, 7.04.2009:

Grupa A

1. prawda/fałsz

1. Wynalazkiem podlegającym opatentowaniu jest nowe rozwiązanie o charakterze technicznym nie wynikające w sposób oczywisty ze stanu techniki.

2. Nie narusza się patentu na wynalazek przez stosowanie go do celów badawczych.

3. Za współtwórcę projektu wynalazczego uważa się osobę która udziela pomocy przy dokonaniu projektu.

4. Z ochrony prawnej znaków towarowych nie mogą korzystać firmy, które nie dokonały ich rejestracji w urzędzie patentowym.

5. Układ o Współpracy Patentowej (PCT) pozwala na uzyskanie międzynarodowego patentu.

6. Twórca może kożystać z wszystkich uregulowań prawnych dotyczących jego sytuacji.

7. Można w trydbie elektronicznym dokonywać zgłoszeń wynalazków do EPO.

2. ............ to najważniejsza część dokumentacji zgłoszeniowej wynalazku, która stanowi podstawę do zdolności patentowej przedmiotu zgłoszenia.

2.b(ja miałem to na poprawce)

…………… -rozwiązanie techniczne dotyczące ………, …………... lub zestawienia przedmiotu o trwałej postaci, nowe w skali światowej i użyteczne.

3. Objaśnij bliżej jedną z dwu podstawowych zasad systemu ochrony własności przemysłowej:

zasadę priorytetu konwencyjnego lub

zasadę stosowania opatentowanego wynalazku

4. Maksymalny okres ochrony wynosi:

a) dla wynalazku:

b) dla wzoru użytkowego

c) dla nazwy geograficznej

5. Których z poniższych dziedzin prawo wynalazcze/ochrona patentowa nie dotyczy:

architektura, znaki towarowe,

6. Kiedy wygasa/można stracić ochronę patentową.

7. Od kiedy do kiedy działa ochrona patentowa.

Grupa B

1. true/false

1. Patent na wynalazek dotyczący sposobu wytwarzania rozciąga się także na wytwory uzyskane bezpośrednio tym sposobem.

2. Licencja to upoważnienie innej osoby do korzystania z danego wynalazku.

3. Przedmiotem prawa autorskiego jest każdy przejaw działalności twórczej o indywidualnym charakterze, ustalony w jakiejkolwiek postaci, niezależnie od wartości przeznaczenia czy sposobu wyrażenia.

4. Istota wynalazku zgłoszonego do ochrony patentowej jest opisana przede wszystkim w zastrzeżeniach patentowych.

5. Bez zezwolenia twórcy nie wolno nie odpłatnie korzystać z już rozpowszechnionego utworu w zakresie własnego użytku osobistego.

6. Na sankcje karne narażamy się tylko sprzedając, zarabiając na sprzedaży cudzej wartości intelektualnej.

7. Wytwory o charakterze jedynie estetycznym nie mogą być przedmiotem ochrony intelektualnej.

2. Przez uzyskanie patentu nabywa się prawo ......... korzystania

z wynalazku w sposób ............. lub zawodowy na całym obszarze państwa.

[wyłączne i zarobkowe chyba]

3. Objaśnij bliżej jedną z dwu podstawowych zasad własności przemysłowej:

zasadę asymilacji lub

zasadę ochrony praw osób trzecich

4. Maksymalny okres ochrony wynosi

a) dla wzoru przemysłowego:

b) dla znaku towarowego:

c) dla utworu (prawo autorskie):

5. Czego dotyczą następujące nazwy, skróty:

Konwencja Paryska, Konwencja Berneńska, WIPO, Konwencja Monachijska, (..)

6.

7.Wymień organy (państwowe i inne) zajmujące się ochroną patentową (chyba w Polsce).



Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
ulubione pytania, Geodezja, semestr VII, Ochrona własności intelektualnej, OWI
1 ochrona pytania egzamin, studia (WSTiH), semestr VI, Ochrona własności intelektualnej
KONWENCJA BERNEŃSKA, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona Własności Intelektualnej,
Pojęcia, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona Własności Intelektualnej, wojtysiak,
Rodzaje utworów chronionych prawem autorskim, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona
Utwory pracownicze, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona Własności Intelektualnej,
najważniejsze podmioty, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona Własności Intelektual
OWI full test, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona Własności Intelektualnej, wojty
1.abcd, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona Własności Intelektualnej, wojtysiak, O
ZAS PRZYWIL KOMUNIKACYJNEGO, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona Własności Intelek
Podmiot prawa autorskiego - twórca, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona Własności
zaliczenie z owi, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona Własności Intelektualnej, wo
Rola Rzecznika patentowego w szkole wyższej, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona W
ochrona patentowa, MiBM Politechnika Poznanska, VII semestr TPM, Ochrona Własności Intelektualnej, w

więcej podobnych podstron