IMGW29

38

Schematycznie aparaturę ułtrawysokopróżniową (UHV) stosowana do nanoszenia warstw metodą rozpylania katodowego i analizy powierzchniowej przed-] stawiono na rysunku 3.17 (17).

Rys. 3.17. Ogólny schemat aparatury u!tra»y3okopró»iowcj do nanoszenia warstw wiciokroinycb i; analizy powierzchniowej: a) komora pomiarowa, b) komora nanoszenia UHV. c) komora analityczna' UHV. d) komora załadowcza (fmtyM Fizyki Molekularnej PAN) (17)

ino

K

[ Metoda CVD jest inną techniką wytwarzania warstw nanokrystalicznych, gdzie I wskutek zachodzących na powierzchni podłoża lub w jego sąsiedztwie reakcji! chemicznych dwóch lub więcej gazowych substratów wyjściowych są tworzone stałe produkty użytkowe oraz uboczne produkty lotne} Konwencjonalne (tzn. nie wspomagane) CVD. z oporowym łub indukcyjnym grzaniem reaktora chemicz- i nego, może być prowadzone przy ciśnieniu atmosferycznym lub przy ciśnieniu [ obniżonym [9, 10). Przykłady materiałów chemicznie osadzonych z fazy gazowej (CVD) zestawiono w tabeli 3.7.

Tabela 3.7]

Materiały otrzymane metodą CVD

Materiał	Przykładowe zastosowanie
knyty wiskmy Fe SijN«, SiC, AIjOj. BN	materiał magnetycznie twardy materiał magnety cznie mątki kompozyty ceramiczne

3.7. Metoda zol-żel

(Nanomateriały można również otrzymać metodą zol-żel (sol~g<l). która polega na powolnym odwadniania wcześniej przygotowanego zolu wodorotlenku danego metalu, prowadząc do zamiany zolu w żel [3,11J. W metodzie tej wykorzystywana

L_