bH?k0"’"“ 'lcm",l',w ------------»/■1 *1»«**. ‘
t)j rozpylanie magnctronowc. c) dyfti/j*
ceramiczne: a) AI;QU b) BeO. C) AIN
Typowe grubości ścieżek w oklml.cl, gmlnmaniiw^iji ,)»Mm o; 3 (im, c) 500 (im.
Szerokość ścicżki grubowarstwowej to; a; 0,3 p/r^ b) 300 nm, C) 30 min. I
Składnik podstawowy past decyduje o; a; właściwością* elektrycznych, | D) przyczepności, c) lepkości pasty
Rozrzuty wartości rezystancji rezystorów (grubowarstwowych po wypałem (bez korekcji) wynoszą: a) ± 1 %, b) ± 20 %, c) 4 100 %, -------------1
ie porów.
Metoda Fodel polega na: a) obróbce fotolitograficznej wysuszonej warstw] b) obróbce fotolitograficznej wypalonej warstwy, c) nacinaniu laserem.
Procesy zachodzące w czasie wypalania warstwy rezystywnej: -składnika organicznego, b) zagęszczanie szkła, c) powstawanie
Pomiędzy ziarnami przewodzącymi w rezystorach grubowarstwowych występuje przewodnictwo: a) tunelowanie, b) skokowe, c) emisja połowa.
Zalety „kładów polimerowych: .) niśka cm b) rtof MbUK* c)^ dopuszczalne moce. ________
Spmk^ d„ *«^--3WSf......“
b) montażu powierzchniowego, ; -___---
-ry^e^ośCiś.owetc.r^LTCCÓm^OCm
c) 1000 pm.