Zdjęcie005 (2)

Procesy pierwotne    * I

\. A + hv -» A + e    Fotojonizacja

3. A + e A + c" Wzbudz nie jwy wołane zderzeniem z elektronami

2. A + ej -» A + e, + c'j Jonizacja wywołana zderzeniem z elektronami

Procesy relaksacyjne

1. A**    A* + hv

2. A**    A~+e

Fluorescencja promieniowania X Emisja elektronów Augera

£tek trony augtrn

(Kt*Ul

£

Poziomy

'rdzenia

aio/iwego

Schematyczne przedstawienie procesów emisji fotoelektronów i elektronów Augera oraz

-Poziom tttmisgo ~ Pasmo nalercyina

fluoresccncji promieniowania X

Energie fotoelektronów, elektronów lub p umienia X zależą od składu powierzchni materiału. Analiza widma-energetycznego cząstek emitowanymi może zatem stanowić ooi stawę do określa i*** składu badanego matenfiłu w warstwach powierzchniowych. Grubość analizowanej warstwy wynosi 0,5 - 2,0 nm. Aby uzyskać dane dotyczące .ptofili głębokościowych składu konieczne jest lip. trawienie jonowe, polegające lta usuwaniu warstw w wyniku bombardowania matpriahi jenami np. argonu. Prowadzi to jednak do trudności w interpretacji wyników, związanych z oddziaływaniem między jonami wiązki i atomami materiału. Jakkolwiek spektrometria fotoelektronów bywa stosowana do badać powierzchni, to ze względu na niezbyt wysoką czułość, rzędu 0,1 % słabą zdolność rozdzielczą, ok. 1 mm oraz małą szybkość rejestracji danych wykorzystanie jej jest ograniczone.

V