W mikroskopie transmisyjnym preparat jest przesuwany i nachylany względem wiązki elektronów za pomocą uchwytu. Układ od trzech do sześciu soczewek elektromagnetycznych spełnia funkcje układu optycznego obiektyw-projektor i tworzy powiększony obraz 100 do 106 razy na ekranie fluorescencyjnym mikroskopu. Obraz może być rejestrowany za pomocąkamer fotograficznych lub cyfrowych kamer CCD. W obecnej wersji mikroskopu TEM obraz rejestrowany jest na kliszach w kasetach. Wysoka energia elektronów bombardujących powierzchnię preparatu pozwala uzyskać rozdzielczość obrazu rzędu 0,20 nm. Dzięki temu możliwe jest odwzorowanie struktury atomowej preparatu. Kontrast uzyskiwanych w TEM obrazów zależy od tego, czy przez przesłonę obiektywu przechodzi jedynie wiązka elektronów, które nie uległy dyfrakcji, czy też przechodzi przez nią jeszcze kilka wiązek ugiętych na sieci krystalicznej preparatu. Mała rozbieżność wiązek elektronowych w TEM sprawia, że mikroskop ten charakteryzuje się stosunkowo dużą głębią pola zarówno po stronie przedmiotu, jak i obrazu. Umożliwia to oglądanie preparatów o bardzo różnorodnej mikrorzeźbie powierzchni. W mikroskopie elektronowym TEM elektrony wiązki wnikają w próbkę na niewielką głębokość do 1-2 pm, ogólnie zależną od materiału próbki i energii elektronów, ulegając wielokrotnym rozproszeniom na siatce krystalograficznej materiału próbki. Niewielka część elektronów wychodzi z powrotem z próbki - są to tzw. elektrony wstecznie rozproszone. Elektrony, które pozostały w próbce tracą energię w różnego rodzaju oddziaływaniach. Towarzyszy temu emisja elektronów wtórnych i promieni rentgenowskich charakterystycznych dla atomów, z których składa się próbka. Emitowane przez próbkę elektrony wtórne lub wstecznie rozproszone są wychwytywane przez detektor, a wzmocniony sygnał wychodzący z detektora steruje jasnością wiązki elektronów poruszającej się po ekranie.
Dla fraktograficznej analizy powierzchni próbki najważniejsze są trzy rodzaje sygnałów pochodzących od elektronów wtórnych, elektronów wstecznie rozproszonych i od promieniowania X (rys. 1.13). Elektrony wtórne o małej energii (10-50 eV) pochodzą z warstw materiału położonych blisko powierzchni próbki, to jest z głębokości porównywalnej ze średnicą pierwotnej wiązki elektronowej. Elektrony wtórnie rozproszone mają większą energię (5-40 keV) porównywalną z energią wiązki padającej. Są więc emitowane z większego obszaru niż elektrony wtórne.
luminiseeoc i
Rys. 1.13. Schema: iiusmrair wiazas sid
Promieniowanie X o Jest to promieniowanie : a_ne próbki. Długość fali promśaH żelaza wynosi około 3-10-* a. 1 odzwierciedlają topograf ę : w zdolność rozróżnianie nary _ chemiczną warstwy wiernann e przeprowadzenia jakoś:: ń i
1.5.3. Metodyka badań
Podstawową metody aa faktograficznych jest me::-aa -pulamiejsza metoda badawcza. kładaniu, zwilżonej uprzednio a powierzchnię próbki po ekresho replika zachowuje dokładne :n na niej zjawiskami zmęraem : -optycznym sprzężonym z kc mr puterowy LUCIA jest wyk: my z użyciem myszy oraz rejcstm
Metodę replik stosu; e się n wzorowania powierzchni pęku replikę napyla się najpierw • ez kontrastowości obrazu mikrosi materiałem badawczym w dals; skopu TEM.
24