b
W tranzystorze polowym JFET elektrody D (dren)i S (źródło i typu n dołączone są dc płytki półprzewodnika typu p. a złącze pn występuje miedzy tą płytką a obszarem bramki G cc pokazane jest na rys. a). Jednorodny obszar półprzewodnika występujący między drenem i źródłem stanowi kanał, przez który płynie prąd i którego rezystancję można zmieniać przez zmianę przekroju kanału. Zmianę przekroju kanału uzyskuje się przez rozszerzenie lub zwężenie warstwy zaporowej złącza pn. a więc przez zmianę napięcia l'GS polaryzującego to złącze w kierunku zaporowym.
Ze względu na to. że w obwodzie wejściowym tranzystora JFET występuje złącze pn spolaryzowane w kierunku zaporowym, rezystancja wejściowa takich tranzystorów jest bardzo duża.
Pod wpływem napięcia l'GS polaryzującego zaporowo złącze pn. warstwa zaporowa rozszerzy się tak. jak to pokazane jest na rys. b), przekrój kanału tym samym zmniejszy się. a jego rezystancja wzrośnie. Łatwo można sobie wyobrazić, że dalsze zwiększanie napięcia UG£ w kierunku zaporowym spowoduje, że warstwy zaporowe połączą się i kanał zostanie zamknięty, a jego rezystancja będzie bardzo duża.
Można powiedzieć, że tranzystor JFET jest swego rodzaju rezystorem sterowanym napięciowo.