Pamięci półprzewodnikowe
KOLEGIUM KARKONOSKIE INSTYTUT TECHNIKI
SiJ-3
Struktura FAMOS -komórka pamięciowa układu EPROM, wykorzystuje się zjawisko trwałego magazynowania ładunku w podbramkowej warstwie dielektryka, wprowadzonego przez wymuszenie napięciowe
0
FAMOS - Floating gate Avalanche-injection MOS; struktura swobodnej bramki - floating gate
♦25V PROGRAMOWANIE
e~ - elektron gorący 10 5V/cm
Si/Si02 -3,2eV
bariera energetyczna
A UT
AQfg
C
AQfg —przyrost ładunku swobodnej bramki C — pojemność między bramką swobodną a ste-