— 254
Dalsze uściślenia modelu zjawisk zachodzących w tranzystorze, przedstawione na rys.
5.13, 5.14, wynikają, z uwzględnienia dodatkowych składowych prądów emitera i bazy. Na rysunku 5.13 przedstawiono składową IpE prądu dyfuzji dziur z bazy do emitera, gdzie rekombinują one z elektronami. Składowa lpE cyrkuluje w obwo-
Rys. 5.13
Dalsze uściślenie obrazu zjawisk w tranzystorze; uwzględniono prąd dyfuzji dziur z bazy do emitera Ipe
dzie wejściowym dając jednakowy wkład do prądu emitera i prądu bazy (w złączu niesymetrycznym n + +-p+ strumień dyfuzji dziur z bazy do emitera jest znacznie mniej,szy niż strumień dyfuzji elektronów z emitera do bazy). Na rysunku 5.14 uwzględniono również składową prądu rekombinacji w obszarze warstwy
Rys. 5.14
Kolejne uściślonio obrazu zjawisk w tranzystorze; uwzględniono prąd rekombinacji w warstwie zaporowej złącza E-B
IrEB
zaporowej (por. „przybliżenie drugiego stopnia” w rozdziale 3). To dokładniejsze modele wykorzystamy w p. 5.5 do analizy zależności wzmocnienia prądowego od parametrów konstrukcyjno-technologicznych tranzystora.
Pełny obraz rozpływu prądów' w tranzystorze przedstawiono na rys. 5.15, na którym uwzględniono również tzw'. prąd zerowy /CB0.
W tranzystorze krzemowym jest to prąd nośników mniejszościowych generowanych w obszarze warstwy zaporowej złącza C-B spolaryzowanego w kierunku zaporowym. Para elektron-dziura powstająca w warstwie zaporowej jest natychmiast „wymiatana”, przy czym elektron podąża do kolektora, a dziura do bazy. Prąd Icbo dodaje się do prądu kolektora, a odejmuje od prądu bazy. Zatem efektywnie w obwodzie kolektora płynie prąd
(5.10)
IC — E +IcBO