92595

Technologie Ciała Stałego" TCS-E-1 zal. cząstkowe 2 (sem. letni 2010)

1. Podział procesów wytwarzania struktur warstwowych

2. Grubość i struktura warstw - podziały, przykłady

3. Materiały podłożowe - podział, wymagania, zasady doboru

4. Metody oczyszczania podłoży - związek z materiałem

5. Początkowe stadia wzrostu warstw

6. Aparatura do naparowywania próżniowego i rozpylania katodowego - rola części składowych

7. Parametry sterowania procesem - naparowywania próżniowego oraz rozpylania katodowego

8. Zastosowania praktyczne naparowywania próżniowego i rozpylania katod.

9. Porównanie naparowywania próżniowego i rozpylania katodowego

10. Etapy procesu osadzania chemicznego z fazy gazowej (OCFG) oraz typy stosowanych reakcji

11.OCFG - układ aparatury, parametry sterowania i modyfikacje procesu

12. Porównanie OCFG i metod plazmowo-próżniowych

13. Zastosowania praktyczne OCFG

14.    Zasady techniki grubowarstwowej

15.    Etapy procesu zol-żel i parametry sterowania procesem

16.    Rodzaje powłok zol-żel i ich zastosowania

17.    Zasady i przyczyny stosowania metalizacji bezprądowej (katalitycznej)

18.    Porównać przygotowanie podłoży: do bezprądowej metalizacji i do elektroosadzania

19.    Zastosowania krzywych polaryzacji do określ, warunków elektroosadzania

20.    Parametry wpływające na proces elektroosadzania metali (+komentarz)

21.    Parametry opisujące otrzymane elch. warstwy metali (+komentarz)

22.    Składniki roztworu do elektroosadzania - zasady doboru

23.    Dobór gęstości prądu, temperatury, mieszania

24.    Wady i zalety procesu elektroosadzania warstw metali

25.    Przykłady zastosowań powłok osadzanych bezprądowo i elektrolitycznych

26.    Podział właściwości warstw metalicznych i innych powłok oraz ich pomiary

Zaliczenie - pisemna odpowiedź na losowo wybrane 3 pytania, po jednym z każdej z trzech grup.