4855312914
Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD)
• Substancje proszkowe lub nanokrystaliczne są otrzymywane z reagentów w fazie gazowej (mogą być osadzane w postaci cienkiego filmu pojedynczych kryształów)
• Lotne związki są ogrzewane celem wytworzenia par, mieszane i transportowane z wykorzystaniem gazu nośnego do substratu, krystalizują na powierzchni substratu
• Przykład: otrzymywanie półprzewodników (arseno-gal)
AsCI3 + Ga + 3/2 H2 -> GaAs + 3HCI
Wyszukiwarka
Podobne podstrony:
Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD)• CVDjest metodą chemiczną pozwalającą
CVD (Chemical Vapour Deposition) - metoda chemicznego osadzania z fazy gazowej obejmuje procesy
Rotation of?F20071123 001 W ostatnich latach opracowano kilka odmian procesów CVD zwanych ogólnie me
Bottom-up methods Osadzanie z fazy gazowej > Fizyczne osadzanie z fazy gazowej >Chemiczne
PIC 0054 Keamor (komora) metody CVD Schematyczne zobrazowanie reaktora (komory) procesu chemicznego
IMGW26 35 3 h •niż : Hyy 3.13. Schemat komory do osadzania z fazy gazowej w warunkach ultrawysokiej
Spektroskopia ramanowska grafenu lega na osadzaniu węgla z fazy gazowej (Chemical Vapor Deposition C
Nano03 11 011 V7ns/7ortgazowych produktów reakcji chemicznych powierzchni podłoża do fazy gazowej
więcej podobnych podstron