Ad. 1.Przyjęcie porządku obrad
Dziekan, prof. Andrzej Trochimczuk, postawił wniosek o przyjęcie porządku obrad trzydziestego dziewiątego posiedzenia Rady Wydziału Chemicznego.
W głosowaniu jawnym Rada Wydziału Chemicznego jednogłośnie przyjęła porządek obrad.
Ad. 2. Przyjęcie protokołu posiedzenia z dnia 23 września 2015 r. (protokół 38/2012-2016)
Dziekan, prof. Andrzej Trochimczuk, postawił wniosek o przyjęcie protokołu 38/2012-2016 z dnia 23 września 2015 r.
W głosowaniu jawnym protokół trzydziestego ósmego posiedzenia Rady Wydziału został jednogłośnie przyjęty.
Ad. 3. Uchwała Rady w sprawie kandydatów do wyróżnienia „Zasłużony dla Wydziału Chemicznego”
Dziekan, prof. A. Trochimczuk, przedstawił kandydatów do wyróżnienia „Zasłużony dla Wydziału Chemicznego”:
Pracownicy Wydziału:
prof. dr hab. inż. Danuta Michalska-Fąk prof. dr hab. inż. Antoni Kozioł
Osoby współpracujące z Wydziałem Chemicznym:
mgr inż. Anna Czumak-Bieniecka - Redaktor naczelna miesięcznika CHEMIK dr inż. Andrzej Puszyński - Prezes Zarządu SITPChem we Wrocławiu
Dziekan poinformował, że Kolegium dziekańskie oraz Komisja ds. rozwoju pozytywnie zaopiniowały przedstawione propozycje.
Następnie Dziekan przybliżył osiągnięcia Kandydatów do wyróżnienia i postawił wniosek o przegłosowanie przedstawionych osób:
Prof. dr hab. inż. Danuta Michalska-Fąk
Wynik głosowania tajnego:
Uprawnionych do głosowania 113 członków Rady, obecnych podczas głosowania 77 osób;
74 głosy za, 3 przeciw, 0 wstrz. się
Uchwała nr 782/39/2012-2016
Działając na podstawie ZW 37/2010 z dnia 28 września 2010 r. wprowadzającego w Politechnice Wrocławskiej „Regulamin wyróżnienia Zasłużony dla Wydziału”, Rada Wydziału Chemicznego popiera kandydaturę prof. dr hab. inż. Danuty M1CHALSK1EJ-FĄK do wyróżnienia „ Zasłużony dla Wydziału Chemicznego ”
Prof. dr hab. inż. Antoni Kozioł
Wynik głosowania tajnego:
Uprawnionych do głosowania 113 członków Rady, obecnych podczas głosowania 81 osób;
80 głosów za, 1 przeciw, 0 wstrz. się
Uchwała nr 783/39/2012-2016
Działając na podstawie ZW 37/2010 z dnia 28 września 2010 r. wprowadzającego w Politechnice Wrocławskiej „Regulamin wyróżnienia Zasłużony dla Wydziału”, Rada Wydziału Chemicznego popiera kandydaturę prof. dr hab. inż. Antoniego KOZIOŁA do wyróżnienia „Zasłużony dla Wydzia/?/ Chemicznego”