POWIERZCHNIE
Metody badań:
SEM, TEM, mikroskopia świetlna
MES
sztuczna inteligencja
badana chropowatości, twardości, skrawności, korozyjne, przyczepności
analiza fraktalna
Czynniki wpływające na adhezję powłok:
mikrostruktura materiału
aspekty środowiskowe otoczenia
obciążenia zewnętrzne
Scratch test - wykonanie rysy na badanej powłoce przy użyciu diamentowego wgłębnika Rockwell C przy wzrastającym obciążeniu Fn.
Obciążenie krytyczne Lc - obciążenie przy którym następuje oderwanie powłoki od podłoża. Zależy od: twardości i chropowatości powłoki i podłoża, szybkości przesuwu wgłębnika, szybkości przyrostu obciążenia.
Adhezja - łączenie się ze sobą powierzchniowych warstw faz.
Kohezja - oddziaływania cząsteczkowe zachodzące w głębi, a nie na powierzchni ciała.
Obciążenie krytyczne Lc1 - obciążenie, przy którym zaczynają pojawiać się pierwsze uszkodzenia.
Obciążenie krytyczne Lc2 - obciążenie, przy którym następuje oderwanie powłoki od podłoża.
Sposoby wyznaczania Lc2:
obserwacja optyczna na mikroskopie
analiza emisji akustycznej
analiza krzywej siły tarcia
Uszkodzenia powstające podczas badania metodą zarysowania:
wybrzuszenie powłoki
wykruszenie powłoki
złuszczenie powłoki
pęknięcia konforemne
pęknięcia wywołane rozciąganiem
Rodzaje zużycia twardych powłok:
zużycie ścierne
wykruszenie
pęknięcia kohezyjne
wgniecenie
złuszczenie
Zużycie - proces postępującego ubytku materiału od powierzchni powłoki w wyniku obciażeń mechanicznych.
Rodzaje zużycia:
adhezyjne
dyfuzyjne
erozyjne
ścierne
zmęczeniowe
SEM
Budowa:
działo elektronowe
kondensory
przysłona
cewki odchylające wiązkę
soczewka skupiająca
detektory
komora próbki
Zasada działania:
wiązka jest przemieszczana po badanym obszarze wzdłuż kolejnych linii
elektrony ulegają absorpcji i odbiciu od próbki emitując elektrony wtórne, Augera i promieniowanie rentgenowskie
powiększenie 10 - 10^5x
zdolność rozdzielcza zależna od średnicy wiązki elektronów i rodzaju sygnału
Katodoluminescencja - emisja promieniowania elektromagnetycznego o długości fali z zakresu nadfioletu, światła widzialnego i podczerwieni występujące pod wpływem naświetlania luminoforów wiązką elektronów.
Podstawowe badania:
badania topografii przełomów
badania zgładów
badania rozmieszczenia pierwiastków
obserwacja próbek poddanych czynnikom korozyjnym
Mikroanaliza:
jakościowa (zależność między długością fal promieniowania charakterystycznego a rodzajem występujących w próbce pierwiastków)
ilościowa (pomiar natężenia linii spektralnych pierwiastków przy nieruchomej wiązce elektronów)
powierzchniowa (ocena różnic w jakościowym składzie chemicznym)
liniowe rozmieszczenie pierwiastków (określa zmiany ilości danego pierwiastka wzdłuż linii)
TEM
Typy TEM:
transmisyjny (wiązka przenika przez badany cienki preparat)
odbiciowy (część elektronów zostaje rozproszonych z powierzchni badanej grubej próbki)
Badane parametry:
struktura
defekty sieci krystalicznej
skład chemiczny
badania dyfrakcyjne
Rodzaje obserwacji:
dyfrakcyjne (analiza fazowa)
obserwacje w polu ciemnym (tworzenie obrazu struktury jednej z wiązek ugiętych)
obserwacje w polu jasnym (przesłona obiektywu wycentrowania w wiązce przechodzącej)
Idea wykonywania badań/zasada działania:
analiza elektronów rozproszonych pod danym kątem po zastosowaniu przesłon i detektorów
obraz jest projekcją 2D struktury próbki w kierunku padania wiązki
mała przysłona obiektywowa, duża kondensora
relatywnie grube próbki
AFM
Cechy mikroskopii:
badanie powierzchni próbki zaostrzoną sondą (długość - kilka mikrometrów, średnica < 10nm) umieszczoną na końcu dźwigienki, której wychylenie tworzy obraz topografii próbki
występują siły van der Waals'a
Tryby pracy:
kontaktowy (dźwigienka kilka dziesiątych nm od próbki (delikatny kontakt), występują siły odpychania))
bezkontaktowy (dźwigienka kilkanaście nm od próbki, występują siły przyciągania)
Przewodnościowy AFM:
pomiędzy sondą a próbką indykowane jest napięcie elektryczne
tryb bezkontaktowy stałej wysokości
XPS
widoczne refleksy elektronów
tło tworzą niesprężyście rozproszone fotoelektrony
jakościowa i ilościowa analiza składu chemicznego warstwy powierzchniowej
próbka wzbudzana promnieniowaniem X niskiej energii
AES (Auger)
Ek elektronu Augera zależy od energii wiązania w danym atomie
jon ze stanu wzbudzonego music powrócić do podstawowego (przeskok elektronu z wyższego poziomu energetycznego i uwolnienie energii)
Raman:
naświetlanie próbki światłem laserowym i badanie wiązki rozproszonej pod kątem długości, intensywności i polaryzacji.
najsilniejszy refleks w tej spektroskopii pochodzi od wiązki, które powstaje przez emisję promieniowania o tej samej częstotliwości