Teoria(13), elektronika


ZESPÓŁ SZKÓŁ Nr 9 im. Romualda Traugutta

W KOSZALINIE

Opracowanie teoretyczne

Temat ćwiczenia:

Badanie tranzystorów MOS.

0x01 graphic

Koszalin rok szk. 2004/2005


  1. Budowa tranzystorów z izolowaną bramką MOS

W tranzystorach polowych z izolowaną bramką pole elektryczne jest doprowadzone przez powierzchniową warstwę dielektryku. Tranzystory te różnią się od tranzystorów polowych złączowych tym, że złącze p-n (spolaryzowane w kierunku zaporowym) zostało zastąpione przez układ metal dielektryk-półprzewodnik.

Tranzystory polowe z bramką izolowaną są oznaczone w literaturze symbolem IGFET (Insulated Gate Fidel Effect Transistor). Do grupy tych tranzystorów należą:

Tranzystory z izolowaną bramką w zależności od napięcia polaryzującego bramkę mogą:

Oba rodzaje pracy można uzyskać w tranzystorach o kanale typu n lub kanale typu p.

Na rys. 1. przedstawiono typowe konstrukcje tranzystorów typu MOS. Między obszarami typu n tworzy się kanał o przewodności typu n i konduktywności oraz przekroju zależnym od wartości pola elektrycznego, wytworzonego przez napięcie Ugs.

Tranzystory tej grupy charakteryzują się:

0x08 graphic
0x01 graphic

Na Rys. 2 przedstawiono budowę tranzystora polowego cienkowarstwowego. Tranzystory te różnią się od tranzystorów MOS tym, że cieniutka warstewka półprzewodnika (ok. 1 μm) jest naniesiona na podłoże szklane lub ceramiczne. Charakterystyki tych tranzystorów są podobne do tranzystorów typu MOS.

0x08 graphic
0x01 graphic

  1. Parametry, zastosowanie i przykładowe charakterystyki tranzystorów MOS

    1. Podstawowe parametry statyczne tranzystorów