p07

Metody z zastosowaniem warstw halogenosrebrowych.

Niestabilność wymiarowa papieru pigmentowego - zastąpienie materiałem światłoczułym zawierającym halogenki srebra. Zaleta materiałów - wysoka i niezmienna w czasie światłoczułość. Filmy: Rotofilm, Rotargofilm, Gravur Resist Contact Film. W materiałach na stabilne poliestrowe podłoże nanoszona jest warstwa rozdzielajjąca oraz halogenosrebrowa. Filmy naświetlane w dwóch etapach: raster, diapozytyw wielotonalny. Układ poddaje się wywoływaniu garbującemu, przenosi na powierzchnię cylindra formowego, po zdjęciu podłoża przeprowadza wywoływanie zasadnicze w wodzie, trawi cylinder miedziany w dwóch roztworach FeC^.

Metoda z zastosowaniem warstw fotopolimeryzujących.

BASF - poliestrowe podłoże z warstwą fotopo li mery żującą. Pierwsze naświetlanie przez diapozytyw wielotonalny, przeniesienie na podłoże drukowe (blacha stalowa pokryta warstwą adhezyjną) i naświetlanie od strony zdjętej folii poliestrowej przez raster. Wywoływanie nie spolimeryzowanych partii układu etanolem - płaska forma drukowa.

Cylindryczna forma drukowa (BASF) - na zamocowane na metalowym trzpieniu podłoże poliestrowe nanoszona jest warstwa fotopolimeru i warstwa wiążąca. Naświetlanie przez diapozytyw wielotonalny, przeniesienie na cylinder aluminiowy, pokryty warstwą adhezyjną o składzie podobnym do składu warstwy wiążącej. Po zdjęciu podłoża poliestrowego naświetlanie prze raster, usunięcie nie spolimeryzowanych partii etanolem.

BKT Displays (fotopolimer + halogenki srebra) - przezroczyste podłoże z naniesioną warstwą fotopolimeryzującą zawierającą halogenki srebra. Naświetlanie przez raster, następnie negatyw wielotonalny i obróbka fotograficzna - powstanie maski srebrowej chroniącej fotopolimer prze kolejnym naświetlaniem od strony podłoża. Wymycie nie spolimeryzowanych partii układu etanolem.

Imperial Chemical Industries - układ dwuwarstwowy: na podłożu przezroczystym poliestrowym znajduje się warstwa z halogenkami srebra i warstwa fotopolimeryzującą. Naświetlanie przeznegatyw wielotonalny, obróbka fortograficzna, naświetlanie przez raster i ostatnie naświetlanie od strony podłoża. Wymycie nie spolimeryzowanych partii układu etanolem.

Metody bezpośrednie

Naniesienie układu fotopo li mery żującego na powierzchnię cylindra formowego, odparowanie rozpuszczalnika, naświetlanie jednocześnie przez raster pozytywowy i negatyw wielotonalny. W czasie naświetlania powstaje inhibitor polimeryzacji. Polimeryzacja przebiega w czasie obróbki termicznej płyty. Jest tym większa im krótszy był czas naświetlania.