94
- siarczek ołowiowy (PbS)
- se lenek ołowiowy (SePb)
• iclurck ołowiowy (TePb)
• odpowiednio aktywowany german (Ge)
- antymonck indowy (InSb)
- siarczek kadmowy (CdS)
Oporniki fotockktryczne wykonywane z materiałów czułych w zakresie podczerwieni (PbS. PbTc. PbSe, Ge, InSb) są stosowane w technice jako detektory podczerwieni.
Do produkcji złącz p — n fotodiod wykorzystuje śf najczęściej selen, german, krzem, oraz arsenek galowy i telurek kadmowy.
Parametry techniczne oporników fotoclcktrycznych jako detektorów promieniowania:
- temperatura detektora (T) - temperatura pracy warstwy półprzewodnika podlegająca oświetleniu
- powierzchnia aktywnego obszaru detektora (S)
• parametry elektryczne związane z punkiem pracy
fotoopomika (dopuszczalne napięcie między
końcówkami, dopuszczalna moc elektryczna
wydzielana na oporniku, prąd ciemny przy danym napięciu na zaciskach, napięcie punktu pracy)
- czułość detektora (c) -napięciowa lub prądowa relacja między wielkością sygnału wyjściowego i wejściowego w danym przedziale pracy
literatura
Z. Bielecki, A. Rogalski, Detekcja sygnałów optycznych. WNT. Warszawa 2001
J. Biernat: Architektura komputerów. Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2002 A. Chwaleba. B. Moeschkc, G. Płoszajski: Elektronika. WSiP, Warszawa 2000
A. Czerwińska, B. Sagnowska; Fizyka (dla szkól średnich). Wydawniclwo„ZAMlAST KOREPETYCJI”. Kraków 1999
W. Marciniak: Przyrządy półprzewodnikowe i układy scalone, WNT, Warszawa 1979
T. Majcwicz, ST. Paul; Podstawy elektrotechniki. PWSZ. Warszawa 1971
B. Mroziewicz, M. Bugajski. W. Nakwaski; Lasery półprzewodnikowe. PWN, Warszawa 1985
B. Pióro. M. Pióro: Podstawy elektroniki - cłI i 2. WSiP. Warszawa 1997
T. Ohly, Z. Rodziński: Elementy elektroniczne (skrypt do laborat.). PWr.. Wrocław
M. Rusek. J. Pasierbiński: Elementy i układy elektroniczne w pytaniach i odpowiedziach. WNT. Warszawa 1997
A. Świt, J. Półtorak: Przyrządy półprzewodnika**. WNT
U. Herze, Ch. Schenk; Układy półprzewodnikowe. WNT. Warszawa 1996
B. W. Wilanowski; Układy scalone. WKiŁ, Warszawa 1989