DSC02918

c). w każdych 100 cm roztworu jest rozpuszczone 1 Ocm³ substancji

23.    Tlenki kwasowe to:

c). S0₂, C0₃ c). Ca(HCO c). M_n (OH'

a). CaO, C0₂, CO b). Si0₂, C0₂, N0₂, A1₂0₃

24.    Jaki ma wzór węglan hydrokśornagnezu

a). Mg(HC0₃)₂    b). (MgOH)₂ C0₃

25.    Hydrosole są to substancje składające się z:

a).M„R_m    b).M„[H_kR]_m

26.    Reakcją zobojętniania nazywamy:

a) , reakcję kwas + zasada,

b) . reakcję kwas + zasada, aż do całkowitego zobojętnienia roztworu

c) . reakcję kwas + woda,

27.    Wodoretlenki są to związki:

a). M(OH)„ M⁺ⁿ + nOH~    b). M(OH)„ <-> MO⁺ⁿ + r

c). M(OH)„ M*" + 2nOH⁺

28.    Które z wymienionych wodorotlenków są zasadowe:

a) . Ca(OH)₂, Mg(OH)₂, NaOH    I

b) . Ca(OH)₂, Sn(OH)₂, NaOH    c).. Ca(OH)₂, Zn(OH)₂

29.    Hydroliza soli jest to reakcja:

a) , jest to reakcja mocnego kwasu i mocnej zasady

b) . jest to reakcja jonów soli z cząsteczkami wody

c) . jest to reakcja słabego kwasu i słabej zasady

30.    Która reakcja ma odczyn zasadowy:

a) . NaCl, CaCl₂, Na₂C0₃

b) . Na₂C0₃, CaHP0_4> CH₃COONa    c). CaCl₂ CaHP0₄, Cl

31.    Jaką wartościowość posiada jon centralny w związku [Co(H₂0)6}

a). IV    b). VI    c).II

32.    Czy dany związek kompleksowy K[BiJ₄j jest:

a), anionem    b). jonem obojętnym    c). kat

33.    Jaką rolę pełni magnez (Mg/Mg⁺² = -2,37V)w ochronie przed kc

a) , jest katodą, która ulega rozpuszczeniu, w ochronie katodowej

b) . jest anodą która ulega rozpuszczeniu w ochronie katodowej

c) . jest powłoką izolującą

34.    Dysocjacja elektrolityczna jest to:

a) , proces rozpadu substancji na jony (pod wpływem rozpuszczalni

b) . proces rozpadu rozpuszczalnika na jony (pod wpływem substan<

c) . proces tworzenia osadu substancji (pod wpływem rozpuszczało

35.    Prawo Hessa mówi że:

a) , ilość ciepła wydzielonego lub pochłoniętego przez układ reaguj stanu początkowego i kopcowego układu tj. substratów i produktó\ sposobu prowadzenia procesu

b) . ilość ciepła wydzielonego lub pochłoniętego przez układ reaguj

stanu początkowego i końcowego układu tj. substratów i produktó' sposobu prowadzenia procesu_^_- : ■ •-"    -