IMG00204

085H7	+0,035 0
072H7	+ 0.0 JO 0

'odłioMu Format

HF?

“lY09.

Rys. 13.9.2

* Molercł I Nr nomy

”HlPN-CJL-200 PN-[Ń 156i

POLITECHNIKA ŚWIĘTOKRZYSKA

w Kielcach

IYKUŁ MKHATWME I BUDOłT MASZY* Kłlodrt Poditiw KaMlntfcji Mutro

No rwo priedmiotu

REDUKTOR walcowy

<y (V)

1. Odlew poddać wyżarzeniu odprężającemu lub sezonowaniu

2. Ogólne tolerancje ISO 8062-CTI4

J. ISO 8062-CTI 4-RMA 4,0(G)

2x08 (patrz F-F) wiercić i rozwiercać wspólnie z korpusem

5. Otwory 072H7 i 085H7 obrabiać po skręcaniu i skolkowaniu z korpusem 13.09.OJ Obróbkę wymiarów podanych w [ ] wykonać wspólnie z korpusem rys. 13.09.03 Nieoznaczone pochylenia odlewnicze-3',

promienie odlewnicze~(3...5)mm Otwory gwintowane fazować 0,5x120'

Ostre krawędzie zatępić

10. ISO 2768-m

11. Powierzchnię pokrywy oczyścić z piasku odlewniczego i malować farbę odporno na olej. Powierzchnia wewnętrzna —0,15 m¹Powierzchnia zewnętrzna - 0,25 m¹

204

Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
IMG00208 085H7 +0,035 0 072H7 +0.030 0 34 4xM6- 10-12/1x45 —— — Ro6,3 43 [ 2x45’] 4
IMG00209 085H7 + 0,035 0 072H7 +0,030 0 348</(/) L-L O [2x45■] . 80 [47] 4
IMG00206 085H7 +0,035 0 K) O ON 072H7 +0,030 0<y (V)f-fo
48825 Str209 (2) L 085H7 + O.OJ5 0 072H7 + 0.0 JO 0 K-K 348 R20 L-L o [174 -
085H7 + 0,035 O 072H7 + 0,030 O 4 16 [n] [ 160±0,08] LZZl Ra 2 0 348 [157] E
Str204 (2) 085H7 +0,035 0 072H7 + 0,030 0 [11]</ (V) 204 [157] E (2:1) Ra 12.5, Rys. 13.9.2 6
Str205 (2) 085H7 + 0,035 0 072H7 +0,030 0 L-L -o [’74-0.25] [2x45 ■] 80 [47] 4
IMG00205 085H7 + 0,035 0 072H 7 +0,030 0 [160±0.08] </ <V; [11] [157] F
IMG00212 085H7 +0,035 0 075H7 +0,030 0 422212 1 Sk
085H7 +0,035 O sO 072H7 + 0,030 O<y (/) 7■LmiRys.
kurmaz102 085H7 +0.035 0 472H7 +0.030 0 4xM6- W- 12/ 1x45 JL 0L-L
kurmaz104 104 104 085H7 +0,035 0 075H7 +0,030 0 [47] 104 ao,oi8 I i 0,045 Uotmol I Nr

więcej podobnych podstron