IMG00212

IMG00212



085H7

+0,035

0

075H7

+0,030

0


422



212

1 Sk 1

(

ka

1

1

T

—J_

(ofó

009 \Y


K-K


Rys. 13.9.9


Hrnormy półwyrób bęWr


POKRYWA

POLITECHNIKA ŚUET0KK2YSKA

Kielcach

mm uauTKONua i budott usrri

KaUdn Podstn Konstrukcji lUiip Nr

Nozao priedmiolu

REDUKTOR stożkowy


[47]

126

88

76

r , 'i

1.    Odlew poddoC wyżarzeniu odprężającemu lub sezonowaniu

2.    Ogólne tolerancje ISO 8062-CTI4

3.    ISO 8062-CT14-RMA 4,0(G)

2x08 (patrz F—F) wiercić i rozwiercać wspólnie z korpusem

Otwory 075H7 i 085H7 obrabiać po skręcaniu i skotkowaniu z korpusem 13.09.10.00 Obróbkę wymiarów podanych w [ ] wykonać wspólnie z korpusem 13.09. 10.00 Nieoznaczone pochylenia odlewnicze-3‘,

promienie odlewnicze ~(3...5)mm Otwory gwintowane fazować 0,5x120'

Ostre krawędzie zatępić ISO 2768-m

Powierzchnię pokrywy oczyścić z piasku odlewniczego i malować farbę odporng na olej. Powierzchnia wewnętrzna — 0,15 m2 Powierzchnia zewnętrzna - 0,25 m2

dlolaol i Hr imj

p-u-miĄM

Nr rysunku

13.09.09.00


Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
kurmaz104 104 104 085H7 +0,035 0 075H7 +0,030 0 [47] 104 ao,oi8 I i 0,045 Uotmol I Nr
IMG00205 085H7 + 0,035 0 072H 7 +0,030 0 [160±0.08] </ <V; [11] [157] F
IMG00208 085H7 +0,035 0 072H7 +0.030 0 34 4xM6- 10-12/1x45 —— — Ro6,3 43 [ 2x45’] 4
IMG00209 085H7 + 0,035 0 072H7 +0,030 0 348</(/) L-L O [2x45■] . 80 [47] 4
IMG00206 085H7 +0,035 0 K) O ON 072H7 +0,030 0<y (V)f-fo
085H7 + 0,035 O 072H7 + 0,030 O 4 16 [n] [ 160±0,08] LZZl Ra 2 0 348 [157] E
085H7Vo 035 075H7 + 0,030 0 _L 0,040 B //! 0.040 A<y
kurmaz102 085H7 +0.035 0 472H7 +0.030 0 4xM6- W- 12/ 1x45 JL 0L-L
53214 Str212 (2) 085H7 +0,035 0 075H7 +0.0 30
Str204 (2) 085H7 +0,035 0 072H7 + 0,030 0 [11]</ (V) 204 [157] E (2:1) Ra 12.5, Rys. 13.9.2 6
Str205 (2) 085H7 + 0,035 0 072H7 +0,030 0 L-L -o [’74-0.25] [2x45 ■] 80 [47] 4
IMG00204 085H7 +0,035 0 072H7 + 0.0 JO 0 odłioMu Format HF? “lY09. Rys. 13.9.2 * Molercł I Nr

więcej podobnych podstron