Współcześnie metoda zol-żel wykorzystywana Jest przede wszystkim do wytwarzania ceramiki tlenkowejjak również rzadziej - powłok węglikowych 1 azotkowych. Zaletami tej technologii są : czystość / powtarzalność substratów,perfekcja I powtarzalność wytwarzanej struktury oraz względnie niska temperatura procesu.W tabeli 4 zestawiono wybrane kompozycje strukturalne ceramiki tlenkowej możliwe do naniesienia w postaci powłok wytwarzanych metodą zol-żel
|| Uktady dwuskładnikowe |
Układy trójskładnikowe | |
Układy wieloskładnikowe |
[|Si02 ■ AI2O3 |
Si02 “ AI2O3 - B2O3 |
Si02-Al203-Ti03-Li20 |
I Si02 ■ B203 |
Si02 " Al203 - CaO |
Si02- Al203 - Zr02-P205 |
Si02 - CaO |
Si02 - AI2Oj - Li20 |
Si02 - Al203 - (Tl20,Cs20,Ag20) 1 |
I Si02 ■ Na20 |
Si02 " Al203 - MgO |
Si02 - Al203 - B203 - Na20 |
'I SiOj-RmOn |
Si02 - Ti02 - B203 |
Si02 - Al203 - Zr02 - La203 |
Si02 ■ Ti02 |
Si02 ~ TI02 ■ Zr02 | |
1 Si02 ■ Zr02 |
Si02 ■ Zr02 • Na20 | |
Zestawienie wybranych systemów ceramicznych możliwych do wytworzenia metodą zol - żel f1J.