DSC66

► Ryt. 4.3. Zależność rozdzielczości obrazu od wielkości woksela.

I Ryc. 4.4. Przykładowy przekrój pantomogt ficzny dopasowany do kształtu łuków zjtioM o domyślnej grubości warstwy.

c.    przekrojów transsektalnych (policzkowo-pod-niebiennych, przedsionkowo-językowych), ale

0    mniejszej grubości warstwy niż w zdjęciach uzyskiwanych w aparatach pantomograficz-nych (ryc. 4.5);

d.    przekrojów analogicznych jak w tomografii komputerowej (wyjściowych i rekonstrukcji MPR) - w płaszczyźnie osiowej, czołowej

1    strzałkowej, jak też ich modyfikacjach (np. płaszczyzny skośne) (ryc. 4.6);

e.    rekonstrukcji pseudotrójwymiarowych typu objętościowego iyolume rendering) lub powierzchniowego (surface-shaded display) w różnych poziomach okna (ryc. 4.7);

f.    w aparatach o dużym polu obrazowania tak że zdjęć cefalometrycznych w projekcji bocz nej i AP/PA, jednak w tym celu aparat musi by wyposażony w urządzenie pozycjonujące przy pominające kraniostat (ryc. 4.8).