3784503760

Gdańsk, 29.05.2015

Katedra Systemów Mikroelektronicznych Wydział ETI PG

Tematy prac dyplomowych magisterskich do realizacji w r. ak. 2015/2016

dla specjalności Systemy Mikroelektroniczne

Temat	Projekt algorytmu modyfikacji fotomasek systemów mikroelektronicznych do zwiększenia dokładności odwzorowania elementów elektronicznych w technologiach nanometrowych.
Temat w języku angielskim	Design of algorithm modifying photomask of microelectronic Systems to enhance quality of Silicon devices in Silicon nanotechnology.
Opiekun pracy	prof. dr hab. inż. Stanisław Szczepański
Konsultant pracy	mgr inż. Krzysztof Kuleczka (Synopsys)
Cel pracy	Analiza nieidealności elementów mikroelektronicznych realizowanych w technologiach krzemowych i propozycja sposobów poprawienia ich jakości na etapie produkcji.
Zadania	1.    Analiza czynników wpływających na nieidealność wy konania elementów mikroelektronicznych realizowanych w krzemie. 2.    Metody zapobiegania / zmniejszania nieidealności. 3.    Analiza dyfrakcji i interferencji wiązki światła oświetlającej fotomaskę na kształt odwzorowania maski na krzemie. 4.    Propozycja algorytmu mody fikacji kształtu fotomaski dla uzyskania dokładniejszego kształtu elementów w krzemie.
Literatura	[ 1.] “Linearity lmprovcment for Photomask Critical Dimension Metrology with Deep-Ultraviolet Microscope” -Takeshi Yamane; Optical Review Vol. 11 No 4 (2004) 208-215 [2.] "Mask phasc and transmission variation effects on wafer critical dimcnsions for nodes 65nm and 45nm“ - F.Dufaye, S.Gough, F.Sundermann, V.Farysa, H.Miyashita, L.Sartelli, F. Perissinotti, U.Buttgereit, S.Perlitz, [3.] R.Birkner; Proc. SPIE Vol. 7545, 75450M (2010) [4.] "The Effect of Intra-field CD Uniformity Control (CDC) on Mask Birefringence" - Guy Ben-Zvi, Eitan Zait, Vladimir Krugliakov, Vladimii Dmitriev, Gidi Gottlieb, Sergey Oshemkov; EMLC 2007 [5.] “Performance comparison of techniąues for intra-field CD control improvement” - Pforr et al; Proc. SPIE Vol. 6730, 673032 (2007) [6.] IEEE [7.] Inne