6830719239

6830719239



Podstawy technologii chemicznej dr inż, Ewelina Ortyl jeżeli w układzie zachodzi reakcja chemiczna, to jej szybkość można wyrazić za pomocą wypadkowej szybkości powstawania (zaniku) j-tego składnika według:

dn


_ dn.

Vjr


r =—x—-f- lub }-~

Vj dt    &

Szybkość tworzenia / zaniku j-tego składnika jest proporcjonalna do współczynnika stechiometrycznego Vj, Pochodna dnj/dt jest dodatnia dia produktów i ujemna dia substratów reakcji.

Uwzględniając w równaniu bilansu materiałowego reakcji chemicznej w reaktorze

Nc

pracującym wstanie ustalonym prowadzi do: vjr+^/Fixv = 0,j = l,2 Nc

Vj- szybkość powstawania składnika w reakcji chemicznej; wypadkowa szybkość

powstawania j-tego składnika w reaktorze

Fi - wypadkowa szybkość dopływu składnika do procesu

Wypadkową szybkość powstawania k-tego pierwiastka, która musi dla każdej reakcji chemicznej = 0, otrzymuje się przez pomnożenie szybkości tworzenia j-tego związku przez liczbę atomów k-tego pierwiastka w j-tym związku m^ i zsumowaniu po wszystkich składnikach.

Wypadkowa szybkość powstawania pierwiastków w reaktorze:

Nc Nc    Nc

ij-rrijk (<F w stanie ustalonym tylko ten człon) + ryV;ml1f (<- w stanie

i=i    ;=t

Nc

ustalonym ten człon =0, zgodnie z równaniem: ^vjmjk = 0, k=l,2,...,Nc) =0

;=i

Przykład

Instalacja produkcyjna wytwarza lOOton/h kwasu siarkowego o zawartości 98% wagowych kwasu. Obliczyć natężenie strumienia S03 i strumienia wody, którą

doprowadza się do instalacji do absorpcji i


wyrazić w kg/h.

Mhsscm = 98 kg/mol Mmo = 18 kg/mol Msoa = 80 kg/mol

so3 + H20 = H2S04

FCh2so4 = 100*1000*0,98 = 98000 kg/h Fch2o = 100*1000*0,02 = 2000 kg/h FcH2so4 = 98000/98 = 1000 kmoi/h

h2so4

Fch2o = 2000/18 = 111 kmol/h H20

Równania bilansowe dla [H]

0= -2Fa(H20) + 2Fc(H2S04) + 2Fc(H20) 2Fb(H20) = 2Fc(H2S04) + 2Fc(H20) Fb(H20) = 1111 kmol/h -» 18*1111 = 20000 kg/h

Fa(S03) = Fc(H2S04) = 1000 kmol/h 1000*80 = 80000 kg/h



Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
Podstawy technologii chemicznej Dr inż. Ewelina Ortyl Literatura: 1} „Podstawowy obliczeń projektowy
Podstawy Technologii Chemicznej prof. dr hab.inż. Józef Hoffmann Technologia chemiczna: 1} Technolog
Podstawy technologii chemicznej : organizacja procesów produkcyjnych / Krzysztof Schmidt-Szałowski,
Podstawy programowania -1 doc. dr inż. Tadeusz Jeleniewski Wykład: sobota B, godz. 10.30 - 12.55 sal
GRUPY iiLABORATORIUM Z PODSTAW TECHNOLOGII CHEMICZNEJ, III rokTCh Prowadzący: wtorek 8:00-12:00 drin
Henryk Koneczny podstawy technologii chemicznej Państwowa Wydawnictwo Naukowe -
CCF20091126037 Ścinanie według PN-B-03264:2002 Wersja 2004 dr inż. Maria WŁODARCZYK 3 1.4. Jeżeli e
Podstawy technologii chemicznej i inżynierii reaktorów pod reóahdą Macieja Wiśniewskiego I
Podstawy wycen I Doc.dr inż. Jerzy Dydenko wykład 30 3 zaliczenie Podstawy wycen I Doc.dr inż.
PODSTAWY TECHNOLOGII CHEMICZNEJ wykład 5 METODY OTRZYMANIA MONOKRYSZTAŁÓW NOTECHNOLOGIA
LABORATORIUM PODSTAW TECHNOLOGII CHEMICZNEJ 2009/10 zajęcia kc w lorek i czwartek Grupa 1 Grupa
LIST NOMINACYJNYNaukowiecPrzyszłości2021 Z przyjemnością informujemy, że Pani Dr inż. Ewelina
*2> f 1 X* ** 1 Jeżeli dokonamy estymacji powyższego modelu to w jej wyniku
minileksykon111 Jeżeli w układzie równań liniowych wyznacznik

więcej podobnych podstron