VII KONFERENCJA ODLEWNICZA TECHNICAL 2004
Odlewnictwo XXI wieku technologie, maszyny i urządzenia odlewnicze
Stanowisko do badań procesu oczyszczania OWS-IOOO
Stanowisko służy ona do prowadzenia badań: elementów roboczych wirników rzutowych (łopatek, tulei regulacyjnych, wirników rozdzielających), separatorów śrutu i ścierniwa.
W skład stanowiska oczyszczania OWS-IOOO wchodzą następujące zespoły:
• komora robocza,
• zespół odpylania,
• drzwi ze stołem,
• przenośnik ślimakowy,
• zespół wirników rzutowych,
• elewator,
• separator powietrzny,
• wyposażenie pneumatyczne.
Charakterystyka techniczna oczyszczarki
Charakterystykę oczyszczarki doświadczalnej wykorzystywanej do badań zamieszczono w tablicy 5.
Tablica 5.
Charakterystyka techniczna oczyszczarki OWS-IOO.
Maksymalne wymiary ładunku |
<j) 1000x700 mm | |
Maksymalne obciążenie stołu |
500 kg | |
Prędkość obrotowa stołu |
5,6 obr/min | |
Zalecane parametry czyściwa | ||
Twardość |
35 -r 50 HRC | |
Granulacja |
0,2 -r 1,2 mm | |
Rodzaj |
Śrut staliwny lany lub stalowy cięty | |
Ilość wirników rzutowych |
2 szt. | |
Wydajność wirnika rzutowego |
50 -f 150 kg/min | |
Wymagane ciśnienie sprężonego powietrza |
0,6 MPa | |
Zapotrzebowanie sprężonego powietrza |
1 Nm3/h | |
Całkowite zapotrzebowanie mocy |
20 kW |
Zasada pracy oczyszczarki
Przedmioty do oczyszczenia układane są na stole roboczym zamocowanym do drzwi komory roboczej. W czasie trwania oczyszczania stół wraz z przedmiotami jest obracany mechanicznie w strugach ścierniwa miotanego przez wirniki rzutowe. Oddzielone zanieczyszczenia wraz z ścierniwem przemieszczane są przesypem do przenośnika ślimakowego
i dalej do elewatora, skąd transportowane są kubełkami do separatora. W separatorze następuje oddzielenie zanieczyszczeń od ścierniwa. Wydzielone z obiegu zanieczyszczenia odprowadzane są do pojemnika, natomiast ścierniwo jest kierowane przewodami zasilającymi do dozowników i dalej do wirników rzutowych.
Parametry pracy oczyszczarki
Istnieje możliwość zmiany lub płynnej regulacji parametrów pracy oczyszczarki OWS-IOOO w celu uzyskania lepszego efektu oczyszczania.
Można zmieniać następujące parametry: