Open Access Library Yolume 5 2011
obróbki cieplno-chemicznej. jako nadal interesujące ze względów praktycznych wymienić można azotowanie plazmowe, azotowanie pod obniżonym ciśnieniem, azotowanie gazowe, kompleksowe obróbki z udziałem azotowania, np. siarkoazotowanie, tlenoazotowanie, nawę-glanie gazowe i węgloazotowanie wysokotemperaturowe, nawęglanie plazmowe i pod obniżonym ciśnieniem, aluminiowanie, borowanie, pasywacja, technologie hybrydowe, łączące w sobie przynajmniej dwie metody obróbki, np. azotowanie połączone z fizycznym osadzaniem z fazy gazowej PVD, nawęglanie połączone z chemicznym osadzaniem z fazy gazowej CYD (rys. 28).
RANKING POTENCJALNYCH TECHNOLOGII KRYTYCZNYCH
MAŁY 1
2 3 4
POTENCJAŁ
Ranking technologii wg przyjętych ocen atrakcyjności i potencjału:
1. Anodowanie
2. Chromowanie
3. Aluminowanie
4. Krzemowanie
5. Tytanowanie B. Wanadowanie
7. Borowanie plazmowe
8. Azotowanie plazmowe
9. Nawęglanie plazmowe
10. Technologie hybrydowe
5 DUŻY
Rysunek 28. Analiza wzajemnych zależności wybranych technologii obróbki cieplno-chemicznej ze wzglądu na ich potencjał i atrakcyjność [20]
Najbardziej prawdopodobną ścieżkę rozwoju strategicznego tej grupy technologii wytycza główny cel związany z umacnianiem się, unowocześnianiem, automatyzowaniem, komputery zowaniem i promowaniem technologii o dużym potencjale w oparciu o dobrą koniunkturę na rynku. Można liczyć się z szybkim rozwojem najbardziej przyszłościowego azotowania plazmowego (jonowego, jarzeniowego) oraz technologii hybrydowych z udziałem azotowania (np. w połączeniu z technologią fizycznego osadzania z fazy gazowej - PVD) przy utrzymującym się na dotychczasowym poziomie rozwoju azotowania pod obniżonym ciśnieniem i malejącym znaczeniu konwencjonalnego azotowania gazowego. Rozwojowi azotowania i jego odmian musi także towarzyszyć polepszanie aspektu ekologicznego omaw ianych technologii w celu minimalizacji szkodliwych substancji emitowanych do środowiska. Prognoza rozwoju grupy technologii nawęglania i węgloazotowania uwarunkowana jest umacnianiem
56 L.A. Dobrzański. A.D. Dobrzańska-Danikiewicz