background image

 

www.chomikuj.pl/MarWag987 

B

B

U

U

D

D

O

O

W

W

A

A

 

 

I

I

 

 

Z

Z

A

A

S

S

A

A

D

D

A

A

 

 

D

D

Z

Z

I

I

A

A

Ł

Ł

A

A

N

N

I

I

A

A

 

 

S

S

K

K

A

A

N

N

I

I

N

N

G

G

O

O

W

W

E

E

G

G

O

O

 

 

M

M

I

I

K

K

R

R

O

O

S

S

K

K

O

O

P

P

U

U

 

 

E

E

L

L

E

E

K

K

T

T

R

R

O

O

N

N

O

O

W

W

E

E

G

G

O

O

 

 

 

 

 
Budowa skaningowego mikroskopu

 

1. działo elektronowe  
 2. kabel wysokiego napi

ę

cia  

 3. odprowadzania do układu pró

ż

niowego  

 4. cewki centruj

ą

ce wi

ą

zk

ę

  

 5. kondensor I  
 6. kondensor II  
 7. przysłona  
 8. zawór pneumatyczny  
 9. cewki odchylaj

ą

ce wi

ą

zk

ę

  

10.ko

ń

cowa soczewka skupiaj

ą

ca  

11.stygmator  
12.detektor elektronów wtórnych  
13.detektor elektronów wstecznie rozproszonych  
14.stolik goniometryczny z próbk

ą

  

15.miejsce do monta

ż

u spektrometru długo

ś

ci  

     fal promieniowania rentgenowskiego  
16.komora próbki  
17.wst

ę

pna 

ś

luza ci

ś

nieniowa 

 

Zalety  

 

 

badana próbk

ę

 mo

ż

na ogl

ą

da

ć

 bez specjalnego  przygotowania  

•   nie jest istotna grubo

ść

 badanej próbki  

•   du

ż

a gł

ę

bia ostro

ś

ci  

•   szybkie uzyskanie wyników  
•   Odporno

ść

 na warunki pró

ż

niowe  

•   zdolno

ść

 ogl

ą

dania całego przełomu przy małych powi

ę

kszeniach 

 
 

background image

 

www.chomikuj.pl/MarWag987 

Skaningowa mikroskopia elektronowa 
 
Mikroskop skaningowy składa si

ę

 z: 

 



   działa elektronowego, gdzie wytwarzana jest wi

ą

zka elektronów,

 



   kolumny,  w  której  nast

ę

puje  przyspieszanie  i  ogniskowanie  wi

ą

zki 

elektronów,

 



   komory próbki, gdzie ma miejsce interakcja elektronów wi

ą

zki z próbk

ą

,

 



   zestawu detektorów odbieraj

ą

cych ró

ż

ne sygnały emitowane przez próbk

ę

 

 



    systemu przetwarzania sygnałów na obraz.

 

 

Jest kilka rodzajów dział elektronowych: 

 



   wolframowe,

 



   LaB6 (lanthanum hexaboride) 

 



   działa z emisj

ą

 polow

ą

 

 

Detektor jest urz

ą

dzeniem słu

żą

cym do zamiany sygnału na łatwiejsz

ą

 do obserwacji lub u

ż

ycia np. 

detektor cz

ą

stek elementarnych, detektor ruchu. Zbudowany jest zwykle z kilku liczników 

scyntylacyjnych poł

ą

czonych z układem elektronicznym, który zawiera prosty układ wyzwalania 

cało

ś

ci i przetworniki czasu i amplitudy sygnałów na kody cyfrowe.[9] 

 
Mikroskop skaningowy jest mikroskopem elektronowym przystosowanym do analizowania silnie 
rozwini

ę

tych powierzchni. Obecnie jest on instrumentem szeroko rozpowszechnionym, stanowi

ą

cym 

podstawowe wyposa

ż

enie laboratoriów badawczych. Za pomoc

ą

 mikroskopu skaningowego mo

ż

na 

uzyska

ć

 liczne informacje o składzie chemicznym, strukturze oraz rze

ź

bie obiektu bez skomplikowanej 

preparatyki. Jego szczególn

ą

 zaleta jest dobra zdolno

ść

 rozdzielcza, co najmniej 15nm przy du

ż

ej 

ę

bi ostro

ś

ci, około 500 razy wi

ę

kszej ni

ż

 w mikroskopach 

ś

wietlnych. Te jego cechy pozwalaj

ą

 na 

odwzorowanie w du

ż

ym powi

ę

kszeniu szczegółów powierzchni badanych próbek, a wyposa

ż

enie go 

dodatkowo w spektrometry rentgenowskie pozwala na przeprowadzenie analizy chemicznej 
zauwa

ż

onych szczegółów lub uzyskanie rozkładu pierwiastków na badanej powierzchni. 

 
Mikroskop  skaningowy  znalazł  szerokie  zastosowanie  w  materiałoznawstwie  z  powodu  takich 
charakterystyk jak: 

 



   du

ż

a gł

ę

bia ostro

ś

ci, 

 



   wysoka zdolno

ść

 rozdzielcza, 

 



   du

ż

e powi

ę

kszenie 

 

 

Szczególne  znaczenie  maj

ą

  wyniki  bada

ń

  ciał  stałych  w  zakresie  morfologii  powierzchni, 

struktury i mechanizmów p

ę

kania.

 

 

W mikroskopii skaningowej mo

ż

na otrzyma

ć

 obrazy o znacznie wi

ę

kszej gł

ę

bi ostro

ś

ci ni

ż

 w 

mikroskopii 

ś

wietlnej. Gł

ę

bia ostro

ś

ci to zakres powy

ż

ej i poni

ż

ej płaszczyzny najlepszej ostro

ś

ci, w 

którym utrzymana jest dobra jako

ść

 obrazu. Przy wi

ę

kszej gł

ę

bi ostro

ś

ci mikroskop daje lepsze 

odwzorowanie próbek trójwymiarowych. Obrazy uzyskiwane w mikroskopie skaningowym doskonał

ą

 

jako

ść

 zawdzi

ę

czaj

ą

 nie tylko bardzo dobrej rozdzielczo

ś

ci lecz równie

ż

 du

ż

ej gł

ę

bi ostro

ś

ci. W 

mikroskopie skaningowym nie ma bezpo

ś

redniej zale

ż

no

ś

ci gł

ę

bi ostro

ś

ci i powi

ę

kszenia. 

 
Zdolno

ść

 rozdzielcza zale

ż

y od 

ś

rednicy wi

ą

zki elektronów skupionej na próbce oraz rodzaju 

wybranego sygnału. Najwi

ę

ksz

ą

 zdolno

ść

 rozdzielcz

ą

 zapewnia wykorzystanie elektronów wtórnych 

do tworzenia obrazu, gdy

ż

 ich obszar wzbudzenia jest porównywalny ze 

ś

rednic

ą

 wi

ą

zki. 

Rozdzielczo

ść

 jak

ą

 mo

ż

na osi

ą

gn

ąć

 wynosi ok. 5nm. Uzyskanie takiego wyniku wymaga 

zastosowania odpowiednio du

ż

ych powi

ę

ksze

ń

 oraz du

ż

ej liczby linii skanowania na obszarze 

badanym i monitorze. 
 
Powi

ę

kszenie w takim mikroskopie jest równe stosunkowi wymiaru boku ekranu do boku obszaru 

omiatanego na próbce przez wi

ą

zk

ę

 elektronów. Wielko

ść

 obszaru skanowanego zale

ż

y z kolei od 

nat

ęż

enia pr

ą

du w cewkach odchylaj

ą

cych, odległo

ś

ci próbki od ostatniej soczewki oraz napi

ę

cia 

przyspieszaj

ą

cego elektrony. Uzyskiwane powi

ę

kszenia s

ą

 około 10-105 razy. 

 

background image

 

www.chomikuj.pl/MarWag987 

ę

dy układu elektronooptycznego 

Wszystkie  aberacje  zale

żą

  od  rozmiaru  przesłony.  Wi

ę

kszo

ść

  z  nich  powoduje  rozmycie  punktów 

obrazu,  jedynie  dystorsja  izotropowa  i  anizotropowa  zniekształcaj

ą

  obraz  bez  jednoczesnego 

rozmycia. 

 

Spo

ś

ród wymienionych bł

ę

dów obrazu główna rol

ę

 w mikroskopii elektronowej wykazuj

ą

 



   aberacja sferyczna, 

 



   aberacja chromatyczna, 

 



   bł

ą

d dyfrakcji, 

 



   astygmatyzm osiowy 

 



   i dystorsja

 

 
 

Aberacja sferyczna polega na tym, 

ż

e poszczególne strefy soczewek posiadaj

ą

 ró

ż

ne ogniska. Siła 

łami

ą

ca soczewki elektronowej dla promieni bardziej odległych jest wi

ę

ksza niz dla bliskich osi. 

Elektrony wpadaj

ą

ce w soczewk

ę

 w obszarze zewn

ę

trznym wi

ą

zki przecinaj

ą

 o

ś

 wcze

ś

niej ni

ż

 

elektrony wchodz

ą

ce w obszarze wewn

ę

trznym, przyosiowym. Punkt przedmiotu na skutek aberacji 

sferycznej nie jest odwzorowany punktem, lecz kr

ąż

kiem rozproszenia. W celu okre

ś

lenia tego koła 

wyznacza si

ę

 pocz

ą

tkowe nachylenie toru, które wychodzi z osi optycznej w płaszczy

ź

nie przedmiotu i 

przechodzi przy brzegu otworu przysłony. Aberacja sferyczna ogranicza mo

ż

liwo

ś

ci wi

ę

kszo

ś

ci 

przyrz

ą

dów elektronooptycznych i dlatego korekcja jej jest bardzo wa

ż

na. Jest ona najpowa

ż

niejsz

ą

 

wad

ą

 obiektywów mikroskopów elektronowych. Dotychczas nie udało si

ę

 zmniejszy

ć

 aberacji 

sferycznej soczewek z praktycznym rezultatem. Opublikowano kilka rozwi

ą

za

ń

 soczewek, w których ta 

wada została zmniejszona, jednak kosztem powa

ż

nego skomplikowania konstrukcji. 

 
Aberacja  chromatyczna  jest  wad

ą

  układu  optycznego,  która  polega  na  ogniskowaniu  w  ró

ż

nej 

odległo

ś

ci 

ś

wiatła  o  ró

ż

nej  długo

ś

ci  fali.  Bł

ą

d  w  ogniskowaniu  jest  spowodowany  ró

ż

nic

ą

  w 

ogniskowaniu  soczewki  dla 

ś

wiatła  fioletowego  (ogniskowa  jest  krótsza)  i  dla 

ś

wiatła  czerwonego 

(ogniskowa  jest  dłu

ż

sza).  Soczewka  na  zewn

ę

trznych  kraw

ę

dziach  powoduje  rozszczepienie 

ś

wiatła 

jak pryzmat. 

 

 

Odległo

ść

  ogniskowa  f  soczewek  elektronowych  jest  funkcj

ą

  energii  elektronów 

przewodz

ą

cych  przez  obszar  soczewki.  Rozrzut  energii  elektronów,  który  powoduje  aberacj

ę

 

chromatyczn

ą

  spowodowany  jest  naturalnym  rozrzutem  pr

ę

dko

ś

ci  pocz

ą

tkowych  elektronów  oraz 

wahaniami  napi

ę

cia  przyspieszaj

ą

cego.  Aberacja  ta  mo

ż

e  by

ć

  równie

ż

  wywołana  przez  wahania 

pr

ą

dów soczewek magnetycznych oraz ró

ż

nymi stratami energii w przedmiocie. 

 

 
 

Astygmatyzm osiowy powoduje najwi

ę

ksze zniekształcenie obrazu. W soczewkach elektronowych o 

zachwianej symetrii obrotowej astygmatyzm wyst

ę

puje nawet dla punktów przedmiotu le

żą

cych na osi 

soczewki. Zniekształca ona obraz w obszarze przyosiowym. Podczas odwzorowania punktu 
przedmiotu le

żą

cego na osi za pomoc

ą

 promieni przyosiowych, zakłócone pole powoduje i

ż

 

astygmatyczna wi

ą

zka promieni odwzorowuje punkt w kr

ąż

ek rozproszenia. Obraz rozdziela si

ę

 jakby 

na dwie linie ogniskowe wzajemnie prostopadłe i poło

ż

one w jednakowej odległo

ś

ci przed i za 

płaszczyzn

ą

 ogniskow

ą

. Astygmatyzm osiowy mo

ż

e by

ć

 całkowicie usuni

ę

ty poprzez zastosowanie 

słabych soczewek: stygmatorów, które kompensuj

ą

 działanie zakłócaj

ą

cego pola. Stygmator pozwala 

na zmian

ę

 nat

ęż

enia i orientacji pola korekcyjnego dostosowuj

ą

c si

ę

 do istniej

ą

cej deformacji pola 

soczewki elektronowej. 
 
W mikroskopie elektronowym  zdolno

ść

 rozdzielcza ograniczona jest  bł

ę

dem dyfrakcji, który  wynika  z 

falowych  własno

ś

ci  strumienia  elektronów.  Wi

ą

zka  elektronów  prze

ś

wietlaj

ą

c  przedmiot  zostaje  na 

jego  punktach  ugi

ę

ta.  Promie

ń

  kr

ąż

ka  dyfrakcyjnego  dany  jest  odległo

ś

ci

ą

  pierwszego  minimum 

rozkładu g

ę

sto

ś

ci pr

ą

du na ekranie 

ś

rodka symetrii tego rozkładu. 

 

 

ą

d dyfrakcji nie jest mo

ż

liwy do skompensowania. Z falowooptycznego punktu widzenia nie 

mo

ż

na  ograniczy

ć

  aberacji  sferycznej  od  bł

ę

du  dyfrakcji.  Aberacja  sferyczna  wprowadza  dodatkowe 

przesuni

ę

cie  fazowe  w  zewn

ę

trznych  obszarach  soczewki  i  wpływa  w  ten  sposób  na  kr

ąż

ek 

rozproszenia.

 

 

Dystorsja odgrywa zasadnicz

ą

 rol

ę

 w projektorze, nie narusza ostro

ś

ci obrazu, natomiast psuje jego 

wierno

ść

. Dystorsja nie ogranicza zdolno

ś

ci rozdzielczej, poniewa

ż

 nie psuje ostro

ś

ci, natomiast 

zmienia b

ą

d

ź

 przerysowuje obraz. 

 

background image

 

www.chomikuj.pl/MarWag987 

Analiza ilo

ś

ciowa 

Wielko

ść

 pola powierzchni pod danym pikiem nat

ęż

enia, czyli liczba zarejestrowanych w nim 

impulsów pochodz

ą

cych od danego składowego pierwiastka, pozwala wyliczy

ć

 zawarto

ść

 procentow

ą

 

z jak

ą

 wyst

ę

puje ten pierwiastek w obszarze penetrowanym przez wi

ą

zk

ę

 elektronow

ą

. Wyliczenie 

zawarto

ś

ci procentowej pierwiastków w analizowanej obj

ę

to

ś

ci próbki przeprowadzane jest przez 

program komputerowy, przy zastosowaniu procedury korekcyjnej typu ZAF. Pozwala to osi

ą

gn

ąć

 

dokładno

ść

 pomiaru rz

ę

du 1% ilo

ś

ciowej zawarto

ś

ci danego pierwiastka wyst

ę

puj

ą

cego w badanej 

próbce. 
 
Analiza jako

ś

ciowa 

Warto

ś

ci energii odpowiadaj

ą

ce liniom charakterystycznym badanego widma pozwalaj

ą

 identyfikowa

ć

 

rodzaj pierwiastków, z których składa si

ę

 próbka. Taka identyfikacja okre

ś

la jednoznacznie skład 

pierwiastkowy badanego materiału. Proces ten nazywamy analiz

ą

 jako

ś

ciow

ą

. Poni

ż

ej przedstawiono 

widmo rentgenowskie wyemitowane z próbki  stali nierdzewnej, na podstawie którego mo

ż

emy 

powiedzie

ć

 jakie pierwiastki tworz

ą

 t

ę

 próbk

ę

. W tym przypadku s

ą

 to: w

ę

giel, krzem, chrom, mangan, 

ż

elazo oraz nikiel. 

 
Analiza punktowa 
W przypadku bada

ń

 materiałów niejednorodnych zachodzi potrzeba przeprowadzenia analizy składu 

chemicznego w poszczególnych punktach obserwowanej powierzchni. W tym przypadku na obraz 
topograficzny na

ł

o

ż

ona zosta

ł

a mapa chemiczna pierwiastk

ó

w wyst

ę

puj

ą

cych na badanej powierzchni, 

w kt

ó

rej r

óż

nym kolorom przyporz

ą

dkowano poszczeg

ó

lne pierwiastki. Rozk

ł

ad kolor

ó

w wykazuje

 

 

zr

óż

nicowan

ą

 pod wzgl

ę

dem chemicznym budow

ę

 badanej powierzchni 

 
Nast

ę

pnie na tak otrzymany obraz naniesiono punkty od 1 do 6, w których przeprowadzono ilo

ś

ciow

ą

 

analiz

ę

 składu chemicznego. Poło

ż

enie punktów wybrano w oparciu o uwidocznione, dzi

ę

ki 

zró

ż

nicowanym kolorom, obszary wyst

ę

powania odmiennych pierwiastków. Wyniki analizy ilo

ś

ciowej 

w tabeli poni

ż

ej zawieraj

ą

 procentowy skład wagowy przeliczonych stechiometrycznie pierwiastków na 

proste tlenki tzw. minerały skałotwórcze wyst

ę

puj

ą

ce w badanych punktach powierzchni.[10] 

 
Analiza liniowa 
W  przypadku  materiałów  wielowarstwowych  przeprowadzana  jest,  po  odpowiednim  przygotowaniu 
powierzchni przekroju, analiza liniowa w kierunku prostopadłym do uło

ż

enia tych warstw, czyli pomiar 

koncentracji pierwiastków wzdłu

ż

 tej linii. 

 

 

Analiza liniowa umo

ż

liwia obserwacj

ę

 zmian koncentracji wybranych pierwiastków wzdłu

ż

 linii 

o  zadanej  długo

ś

ci  naniesionej  na  obraz  topograficzny  powierzchni  przekroju  badanej  próbki.  Skala 

długo

ś

ci  linii  do  analizy  jest  wydrukowana  na  obrazie 

ź

ródłowym  oraz 

ś

ci

ś

le  odwzorowana  na  osi 

odci

ę

tych na wykresach z koncentracj

ą

 poszczególnych pierwiastków. Ka

ż

dy z tych wykresów dotyczy 

pojedynczego pierwiastka wybranego z podstawowego spektrum. 

 

 

Nie  pozwala  ona  okre

ś

li

ć

  ilo

ś

ciowego  składu  chemicznego  próbki,  lecz  jest  bardzo  wygodn

ą

 

metod

ą

  dla  obserwacji  nawet  małych  zmian  w  st

ęż

eniu  pierwiastków  analizowanych  w  zadanym 

kierunku. 

 

 
 

Analiza planimetryczna 
Analiza planimetryczna
 polega na okre

ś

leniu jak

ą

kolwiek metod

ą

 powierzchni wszystkich ziarn fazy 

α

 (

 A

α

i) oraz odniesieniu jej do całkowitej powierzchni badanego obszaru A. I wtedy VV = AA

 

 
 
 
 
 
 
Praktycznie idzie wyznaczy

ć

 powierzchni

ę

 cz

ą

stek, np. metod

ą

 wagow

ą

 polegaj

ą

c

ą

 na wyci

ę

ciu 

obrysu wszystkich cz

ą

stek analizowanego składnika z fotografii oraz zwa

ż

eniu ich. Udział badanego 

składnika b

ę

dzie równy stosunkowi ci

ęż

arów wyci

ę

tych powierzchni cz

ą

stek do całkowitej powierzchni 

fotografii.

 

 
 

gdzie:

   A

α

A

 =

 

A

α

i

 

A