ZAKRES MATERIAŁU PIM, Technologia Chemiczna, Rok III, Semestr I, Podstawy inżynierii materiałów, Seminarium


  1. Termodynamika - powtórzenie wiadomości

  1. Układ termodynamiczny, faza, stopnie swobody

  2. Funkcje stanu i potencjały termodynamiczne

  3. Parametry intensywne i ekstensywne stanu, prawa Maxwella (związki między funkcjami termodynamicznymi)

  4. Praca objętościowa i nieobjętościowa, napięcie powierzchniowe, energia powierzchniowa

  5. Obliczenia ΔGr

  6. Samorzutność reakcji chemicznej, przykłady procesów samorzutnych i niesamorzutnych

  1. Termodynamika procesu krystalizacji

  1. Krystalizacja jako przemiana fazowa, siła napędowa procesu krystalizacji

  2. Klasyczna teoria krystalizacji ze stopu

  3. Krystalizacja homo i hetero fazowa, metody krystalizacji

  4. Stopień przechłodzenia stopu, stopień przesycenia stopu

  5. Zarodek krytyczny (jego wielkość, ΔGkryt., zależność od przechłodzenia)

  6. Warunki tworzenia się dużych i małych kryształów (krzywe zarodkowania i wzrostu kryształów)

  7. Diagramy T-T-T

  1. Charakterystyka procesów osadzania z fazy gazowej - technologie CVD (Chemical Vapour Deposition) i PVD (Physical Vapour Deposition)

  1. Przebieg procesu CVD: procesy następcze (transport masy w fazie gazowej i na powierzchni fazy stałej, procesy chemiczne) i reakcje w CVD

  2. Wpływ parametrów procesu CVD na szybkość wzrostu warstw

  3. Metody określania stanu równowagi w układzie CVD (teoria stanu przejściowego)

  4. Sposoby aktywacji reakcji w fazie gazowej, podział metod CVD

  5. Metody wspomagane plazmowo - PECVD; plazma jako stan skupienia materii

  6. PVD i CVD - ogólna charakterystyka, podobieństwa i różnice

  7. Materiały otrzymywane metodami CVD (warstwy węglowe, diamentopodobne modyfikowane azotem, warstwy z Si, etc) i PVD- właściwości i zastosowanie

  1. Spiekanie

  1. Istota spiekania, samorzutność procesu spiekania, siła napędowa spiekania

  2. Zmiany mikro i makrostruktury

  3. Rola powierzchni w spiekaniu: modele powierzchni s-s i s-g

  4. Podział dyslokacji, energia dyslokacji

  1. Transport masy w spiekaniu

  1. Przegrupowanie ziarn (mechanizm i termodynamika) i tworzenie szyjek

  2. Procesy przenoszenia masy w spiekaniu

  3. Prawa i mechanizmy dyfuzji

  4. Dyfuzja objętościowa: przyczyny, przebieg, skutki

  1. Transport masy w spiekaniu - cd.

  1. Dyfuzja po swobodnych powierzchniach, dyfuzja przez fazę gazową, płynięcie lepkościowe, odkształcenia plastyczne

  2. Drogi dyfuzji i strumienie dyfuzji w spiekaniu, skutki dla mikrostruktury - podsumowanie

  3. Miary zagęszczania spieku

  4. Zależność szybkości spiekania od temperatury

  5. Zależność szybkości spiekania od uziarnienia

  1. Ewolucja porów w spiekaniu

  1. Zmiany mikrostruktury w spiekaniu - podział na etapy

  2. I i II katastrofa topologiczna; analiza Kuczyńskiego

  3. Ujęcie ilościowe porów kanalikowych i kulistych

  4. Model ziarna 14-ściennego i niestabilność Ryleigha

  5. Energetyczne uwarunkowania II katastrofy topologicznej

  1. Rozrost ziarn

  1. Klasyczny obraz spiekania - podsumowanie, odstępstwa w rzeczywistych układach

  2. Samorzutność rozrostu ziarn, mechanizm procesu

  3. Kinetyka rozrostu ziarn

  4. Ruchliwość granicy międzyziarnowej

  5. Hamowanie rozrostu ziarn: przez wtrącenia obcych faz, pory i domieszki

  1. Spiekanie z udziałem fazy ciekłej

  1. Spiekanie fizyczne i chemiczne

  2. Równowaga ciecz - ciało stałe

  3. Spiekanie reakcyjne, zwilżanie fazy stałej

  4. Wpływ ilości cieczy na proces spiekania

  5. Diagramy fazowe (dwu- i trójskładnikowe) - do wspólnej analizy, określanie ilości danej fazy

PODSTAWY INŻYNIERII MATERIAŁÓW (SEMINARIUM) - SPIS REFERATÓW TCH 2014/2015



Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
03. Roztwarzanie materiałów w kwasach i przez stapianie, Technologia Chemiczna, Rok III, Semestr II,
13. Miareczkowanie amperometryczne, Technologia Chemiczna, Rok III, Semestr II, Instrumentalne metod
04. Metody rozdzielania, Technologia Chemiczna, Rok III, Semestr II, Instrumentalne metody analizy,
02. Pobieranie prób i kalibracja sprzętu analitycznego, Technologia Chemiczna, Rok III, Semestr II,
mikrokapsułkowanie aromatów, uniwersytet warmińsko-mazurski, inżynieria chemiczna i procesowa, rok I
Mikrokapsułkowanie składników żywności, uniwersytet warmińsko-mazurski, inżynieria chemiczna i proce
tppp sciaga egzam, uniwersytet warmińsko-mazurski, inżynieria chemiczna i procesowa, rok III semestr
cos z produkcji, uniwersytet warmińsko-mazurski, inżynieria chemiczna i procesowa, rok III semestr 6
Regulamin i terminy laboratorium 2014, Technologia Chemiczna, Rok II, Semestr II, Nauka o Materiałac
Inżynieria komunikacji - zakres materiału, administracja, II ROK, III Semestr, podstawy budownictwa
ZADANIE A7(5), Radzion Dorota , technologia chemiczna , rok III , grupa III
ZADANIE A7(3), Radzion Dorota , technologia chemiczna , rok III , grupa III
ZADANIE A7(3), Radzion Dorota , technologia chemiczna , rok III , grupa III
Anality zagadnienia, Technologia Chemiczna PW, III SEMESTR, Chemia analityczna I
ZADANIE A7(10), Radzion Dorota , technologia chemiczna , rok III , grupa III
ZADANIE A7(7), Radzion Dorota , technologia chemiczna , rok III , grupa III
fwdchemiaanalitycznawykjakiemateriay, Technologia Chemiczna PW, III SEMESTR, Chemia analityczna I

więcej podobnych podstron