DSC”47
Metoda chemiczna CVD
* Wytwarzanie warstw metody CVO prowadzi się w szczelnym reaktorze w temperaturze ok. 1000°C i przy ciśnieniu zbliżonym do atmosferycznego. Pary związków chemicznych metalu mającego stanowić podstawowy składnik warstwy trudnościeralnej tzn. tytanu, tantalu, aluminium, chromu lub boru reagują z węglem zna/dującym się na powierzchni powlekanego przedmiotu lub z innymi gazami znajdującymi się w atmosferze reaktora, głównie azotem lub tlenem.
Wysoka temperatura konieczna do przebiegu reakcji chemicznych wyklucza zastosowanie metody CVD do narzędzi wykonanych ze stak szybkotnących.
Technika CVD śluzy głównie do nanoszenia warstw na płytki z węglików spiekanych lub spiekanych materiałów ceramicznych, dla których wysoka temperatura nie powoduje utraty ich własności.
Wyszukiwarka
Podobne podstrony:
Slajd8 [ www potrzebujegotowki pl ] Metoda Gaussa - Jordana Metoda ta stanowi pewnÄ… modyfikacjÄ™ meto
19 Wymianę doświadczeń metodyczno-szkoleniowych prowadzi się między zakładami przedmiotowymi i
19413 Zdjęcie0272 (5) W warstwie powierzchniowej nabłonku znajdują się duże komórki (o średnicy ok.
Rotation of?F20071123 001 W ostatnich latach opracowano kilka odmian procesów CVD zwanych ogólnie me
Wyli Syntezy, wybrane metody: zol-żel, solwotermalne, spalanie chemiczne, CVD 4 Wyl2 Przykłady
Фото5704 Metody obliczania objętości gruntów Metoda przekrojów poziomych z mapy warstwicowej Zastoso
Laboratorium z Nauki o Materiałach II Ćwiczenie 7: Osadzanie warstw metodą PA-CVD
CVD (Chemical Vapour Deposition) - metoda chemicznego osadzania z fazy gazowej obejmuje procesy
Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD)• CVDjest metodą chemiczną pozwalającą
DSCF6161 Metody dekornizacii: • metoda chemiczna - polega na nałożeniu na zaw
Rozdział 18 Większość znanych metod analizy chemicznych składników w wodzie to metody 0
Slajd8 0 Metoda chemiczna Główną ideą tego procesu jest osadzanie metali za pomocą reakcji redukcji
więcej podobnych podstron