136 Elektromagnetyzm
Przedstawiona sytuacja dotyczy nośników większościowych, tzn. elektronów z obszaru n i dziur z obszaru p. Natomiast dla nośników mniejszościowych, czyli elektronów z obszaru p i dziur z obszaru n, bariera nie stanowi przeszkody, ponie- i|j waż ich ruch odbywa się w kierunku ku mniejszej energii (elektrony w lewo, dziur-Jl
oasmo przewodnictwa |
Idn ^ |
-O -0--0 0-0-0-0— Ejj Ef |
n "* !*» Np o |
--------------- Ef | |
—---- ---- Ca |
Ef"........................- |
pasmo walencyjne |
■ ‘energia elektronu
energia r dziury
Rys. 34.1. Pasma i poziomy energetyczne w półprzewodniku typu a (po lewej) i w półprzewodniku typu p (po prawej); Ef - energia Fermiego. E„ - energia domieszek akceptorowych, Ej - energia domieszek donorowych
■sSałr
Rys. 34.2. Schemat energetyczny diody
p~n
ry w prawo). Bariera potencjału na złączu może być zwiększona lub zmniejszona przez przyłożenie do diody napięcia V ze źródła zewnętrznego. Wtedy
(34.1)
tp' = p±V,
przy czym znak + odnosi się do przypadku, gdy do części p jest przyłożony biegun ujemny źródła - mówimy wtedy, że dioda jest spolaryzowana zaporowo. W przeciwnym przypadku mówimy o polaryzacji diody w kierunku przewodzenia.
W diodzie p-n występują dwie przyczyny ruchu nośników;
• dążenie do znalezienia się w obszarze o najmniejszej energii potencjalnej,
• dążenie do wyrównania koncentracji, czyli dyfuzja nośników.
Mechanizm pierwszy powoduje ruch elektronów z obszaru p do obszaru n oraz ruch dziur z obszaru n do obszaru p. Suma strumieni tycli nośników tworzy prąd nasycenia /s:
' ------------- — "(34.2)
który zależy tylko od koncentracji Nn i Pn nośników mniejszościowych, a nie zależy od przyłożonego napięcia.
Koncentracja nośników w danym paśmie zależy wykładniczo od położenia pasma względem poziomu Fermiego Jak wynika z rys. 34.2, różnica energii między pasmem przewodnictwa części p a poziomem EF wynosi (EC — EF) + etp. Koncentracja elektronów jest określona wzorem:
Hf?
kT
(34.3)
34. Wyznaczanie bariery potencjału na złączu p-n
gdzie Ne jest w przybliżeniu wielkością stałą, zwaną efektywną gęstością s/a-1 nów.
Gdy złącze jest symetryczne, koncentracja dziur P„ ma taką samą wartość, tznJ
Pn = %
Proporcjonalność natężenia prądu nasycenia do koncentracji nośników mniejl szościowych możemy zatem wyrazić następującym równaniem:
(gr-Ey)t«ę»
I, = Cee" kT , (34.4)!
w którym stała C zawiera efektywną gęstość stanów, ruchliwość nośników oraz powierzchnię złącza.
Dyfuzja w złączu p-n polega na takim ruchu nośników, który prowadzi do zmniejszenia różnicy koncentracji zarówno elektronów, jak i dziur po obu stronacm złącza. Prąd związany z tym ruchem nazywa się prądem dyfuzji Ij i składa się z prądu elektronowego i dziurowego:
(34.5)!
Prąd dyfuzyjny ma kierunek przeciwny do kierunku prądu nasycenia, stąd wypad-1 kowy prąd płynący przez złącze p-n jest różnicą obu prądów:
Prąd dyfuzyjny elektronów jest proporcjonalny do różnicy koncentracji elektro-1 nów, czyli do (A'„ - Np) oraz do prawdopodobieństwa pokonania bariery potencjału!
P»>
Badane złącze, podobnie jak znaczna część złączy produkowanych przemy-| słowo, składa się z półprzewodników dość silnie domieszkowanych, w których! liczba nośników większościowych jest znacznie większa niż liczba nośników" mniejszościowych, czyli N„» Np.
Prawdopodobieństwo Pp wyraża się wzorem:
eir±V)
Pp = e tT , (34.8);
a koncentrację wzorem:
N„ = Nc<t " . (34.9)j
Po wstawieniu dwóch ostatnich wyrażeń do równania (34.7) otrzymujemy równanie określające prąd dyfuzyjny elektronów: