Ł
Przy zmianach napięcia w kierunku przewodzenia przyłożonego do diody duu zmienia się koncentracja iniektowanych nośników ładunką ujemnego (-Q„j) w p-obszarze i ładunku dodatniego (+Qpd) w n-obszarze, dyfundującychde elektrod zewnętrznych diody
(2.1)
dQd dQ,nif dQpd - d(lm/T„ ' Ipdrp)
gdzie InJ i Ipj - iniektowane prądy dyfuzyjne elektronów i dziur jako nośników mniejszościowych o czasach życia - odpowiednio r„ i rp. Taką zmianę układ zewnętrzny diody przyjmuje jako pojemność elektryczną, nazywaną pojemnością dyfuzyjną Cd. Zatem korzystając z definicji: (j = dQc/duDz uwzględnieniem wykładniczej zależności napięciowej dla prądu dyfuzyjnego (1.3), otrzymamy
nllT
W ten sposób dla złącza skokowego p+-n spolaryzowanego napięciem dodatnim otrzymamy
r
p(39uD ) [pF], gdy I0 w [mA], a n= 1
(2.2a)
Poza tym zjawiskiem,zmiany napięcia przyłożone do diody wywołują również zmiany szerokości warstwy zubożonej dd i ładunku przestrzennego dQj zjonizowanych domieszek w obszarze złącza P-N (rys.2.1). Tę zmianę ładunku układ zewnętrzny diody przyjmuje także jako zmianę pojemności, którą nazywamy pojemnością złączową (albo barierowej
Cj=dQJdun.
qNo
Jeżeli po stronie słabiej zdomieszkowanej złącza mamy rozkład domieszek
N(x)= N0xs dla x>0 (2.3)
•p
->| K-
to dla .v=0 złącze jest progowe, jednorodne
o
-q Ki
dO,WAJ 0} ĄJ Q,v.
oraz
dONDJ złącza.
Rys.2.1. Zmiany szerokości ładunku przestrzennego Atb=ćxp+Ax„ (<7= \xp\+xn) w funkcji napięcia na złączu
domieszkowane z koncentracją jVw=const, dla .v=l profil domieszkowania jest liniowy, zaś dla .v<0 mówimy, że złącze ma profil hiperskokowy. Tego typu profile powstają w procesach epitaksji i implantacji jonowej formowania
Całkując równanie Poissona
d2V _ qN(x)
dx2 £x£{
(2.4)