Zdjęcie004 (2)

Spektrometria jonów wtórnych nalc!y do najbardziej czułych metod analizy powierzchni, gdyż pozwala wykj^ć zawartość składników rzędu 1 ppm w monowarstwie. Daje również możliwość detekcji wodoru i jego związków.

Na trudności napotkać można przy interpretacji widm STMS-u dla stopów bowiem różne współczynniki rozpylania ich składników powsdo*vać mogą zaburzenia struktury i składu poszczcgóir ,-ch warstw.

Metoda analizy energii produktów reakcji Jądrowych NRA ( Nuclear Reactioitf Anałysis)

Wiązka jonów o energiach do kilku MeV uderzająca w badany materiał może oprócz wcześniej opisanego rozpraszania na atomach, oddziaływać z ich jądrami powodu¹1- powstanie nowych izotopów łub atomów innych pierwiastków na drodze reakcji jądrowych.

Energie produktów tych procesów analizowane tą przy pomocy często stosowanych w , fizyce jądrowej detektorów półprzewodnikowych lub liczników scyntylacyjnych.

Metoda ta ma praktyczne zastosowanie do wykrywania pierwiastków o niskich liczbach atomowych Z, gdyż dla dużych Z wiązka pierwotnych jonów ulega rozpraszaniu elastycznemu. Informacja zbierana jest z warstwy powierzchniowej o grubości, kilku mikronów'. Dokładność określenia głębokości sięga 50 - lOc T'. Czułość techniki NRA dochodzi do 10¹⁵ aŁ/cm² lub 10'^,ł g. Nie można jejłpak w tej metodzie osiągać dobrej zdolności rozdzielczej, która wynosi 0(L 0,1 mm.

Wymienione wcześniej zalety oraz:

I- brak naturalnego tła utrudniającego często interpretacje wyników I- unikanie niszczenia próbek

I - możliwość wykonywania analiz w wysokich temperaturach i przy stosunkowo wysokich ciśnieniach

są przyczynami szerokiego rozpowszechnienia metody NRA do badań powierzchni materiałów.

Metoda spektroskopii fotoelektronów ESC A ( Electron Spectroscopy for Chemical Anałysis )

Naświetlenie powierzchni materiałów promłeniowamun X lub ultrafioletowym prowadzi do wybicia elektronów (tzw. fotoelektronów) z pasma walencyjnego lub rdzeni atomów.

Podobny efekt osiąga się bombardując powierzchnię elektronami. Procesy jakie zachodzą, w wyniku oddziaływania promieni X lub elektronów z atomami warstw powierzchniowych materiału przedstawiono poniżej.