(4.8)
Natężenie przepływu oczyszczonej cieczy w kierunku pionowym wynosi: Q = F • v (4.9)
gdzie:
F = 1 • b — pole powierzchni osadzania (powierzchnia sedymentacji), b — szerokość zbiornika (nie przedstawiona na rysunku 4.35).
Podstawiając powyższe odpowiednio do wzoru (4.9), otrzymujemy: h h
Q = bvl = bv-^-J wdh = b[ wdh
-j — (4-10)
0 0
Po podstawieniu za v wartości, zgodnie ze wzorem (4.4), natężenie przepływu oczyszczanej cieczy wyniesie:
(ps - p)g d2 • Ap • g
Q^F--- = F • -- (4.11)
18ti
18ti
Przy założeniu, że różnica gęstości Ap = ps - p = const i r| = const, wydajność zbiornika osadowego o stałym przepływie jest proporcjonalna do powierzchni sedymentacji, czyli w rozważanym przypadku — do powierzchni dna zbiornika.
Najmniejsza średnica osadzanej na dnie cząstki zanieczyszczenia, przy założeniu wartości przepływu Q i powierzchni osadzania F, wyraża się wzorem:
= _ (4.12)
czyli dmin jest proporcjonalna do wartości
Jeżeli zmniejszymy drogę osadzania cząstek zanieczyszczenia w kierunku pionowym, czyli podzielimy wysokość cieczy w zbiorniku h na z części (rys.4.36), tak że otrzymamy jakby szereg zbiorników o takiej samej powierzchni dna F = b l i o wysokości Ah = h/z, to przy takiej samej prędkości osadzania v (dopływ cieczy do każdej warstwy odbywa się w dalszym ciągu z prędkością w) dla nie zmienionej minimalnej cząstki zanieczyszczenia dmin można zwiększyć natężenie przepływu, a mianowicie
Q = Q • 2 = F • z gmi°^P'8 (4-13)
W razie pozostawienia bez zmian natężenia przepływu oczyszczanej cieczy, przy podziale wysokości h zbiornika na z części, średnica najmniejszej osadzanej cząstki ulegnie zmniejszeniu do wartości:
336