Góra bmp

Góra bmp



I2J TKC1CNIKA LABORATORYJNA 11-17.

11.27.    OCZYSZCZANIE STAŁYCH ZWIĄZKÓW

ORGANICZNYCH PRZEZ KRYSTALIZACJĘ

UWAGI OGÓLNE

Stałe związki crganirz.ne, bfipalrednit wydzielone w reakcji, r.le są zwykle czyste, lecz zawierają zazwyczaj niewielki* ilcśil Innych związków ;»xw. ŁanIcaLyBzezeń) powstając; ck jednocześnie z pożądanym produktem reakcji. Oczyszcza się Je zwykle przez krystalizacją z odpowiedniego rozpuszczalnika lub 7 mieszaniny rozpuszczalników. Należy jednak pamiętać. Że bezpośrednia krystalizacja surowego 7.rodaku, reakrji nie zawsze jest wskazana, gdyż niektóre zanieczyszczenia mogą opóźniać krystalizacją, z nawet czasem całkowicie uniemożliwić tworzenie się kryształów; p.i nadto krystalizacja może w tych warunkach prowadzić do dużych strat substancji oczyszczanej. Z tych względów przed krystalizacją. Jeżeli tylko Jest te możliwe, należy zastosować inr.e metody wstępnego oczyszczania, np. destylacją z parą wodną {p. 11.40), pod zmniejszonym ciśnieniem, (p. 11.19), destylacją frakcyjną (p, 11.15), ekstrakcją w aparacie Sozhiet* lub innym odpowiednim aparacie (p. 11.44).

Oczyszczanie .substancji stałych przez krystalizację oparte jest na różnicy ich rozpuszczalności w cdpswitdnim rozpuszczalniku lub w mieszaninie rozpuszczalników. W najprostszym ujęciu krystalizacja polega r.a: 1) rozpuzzcrcnlu zanieczyszczonej substancji w odpowiednio dobranym rozpuszczalniku ogrzewając w temperaturze wrzenia lub w pobliżu temperatury wrzenia, i) odsączeniu gorącego roztworu od części nle-1 o/pu.w.rznli.y oh ' id prcy . ndkr-wy. I. ,ar.:r. zysjrzań. 3) pozostawieni 1 |iT7.PSąmT do chwili oztąbfrr.la. co powoduje krystalizację rozpuszczonego r.f.dSTlurt 4T odirleieniiTTcryszfaTSw od pokrywa jarljó je roztworu flngu vIt-1i • .--i.>j    V ,.*i.v.-:f.rne) -aiks* t.v: |:    bilcj wd/-.

się po osuszeniu (zwykło przez oznaczenie 11 (p. 11.10) i w razie potrzeby poddaje panownej krystalizacji ze świeżego rozpuszczalnika. Krystalizację powtarza się az do chwili otrzymania czystego związku, a więc zwykle do chwili gdy temperatura topnienia oczyszczane) sirfwtancjl przestają się zmieniać po kolejnej krystalizacji.

Podstawy teoretyczne, na których oparte jest usuwanie zanieczyszczeń przez krystalizacją, stają się zrozumiale na tle następujących rozważań: Załóżmy, że zanieczyszczenia cbecnc są w stosunkowo niewielkiej ilości, ntoprzekraczojącej zwykle 5*/* całości. Oznaczmy czystą substancją przez cl, u zanieczyszczenia przez H I załóżmy, żc zanieczyszczenia

iszą ó*/i, Najczęściej rczpuszczelność t\    I (»"*.•> i rozpuszczal

ność li (R») w poszczególnych rozpuszczalnikach są różr.e {wpływ jednej substancji r.n rozpuszczalność drugiej nie jest brany pod uwagę) Ula każdego rozpuszczalnika mogą zajść dwa następujące przypadki: 1) zanieczyszczenie jest lepiej rozpuszczalne <»1 substancji oczyszczanej . [U, > Rn! lub 2) zanieczyszczenia jest mniej roipuszczalnć r.iz substancja oczyszczana’{fłM <. P.^). Oczywiście w przypadku pierwszym po kilku krystalizacjach otrzymuje się czysty związek A, a 8 pczostaje w ługach pokrystallcznych. Przypadek drugi można objaśnić na następującym przykładzie: Załóżmy, że rozpuszczalności związków AlStf określonym rozpuszczalniku w temperaturze pokojowej (16 ) wynoszą 10 e i 3 g na 1110 ml rozpuszczalnika. Jeśli rozpuścimy 50 g surowego materiału (z.s-

witającego 47.5 u ń I i,5 p, B] w 100 nil gorącego rozpuszczalnika i oziębimy roztwAr da temp !5'. to log pokrystoliczny bidzie zawierał 10 g A 1 2.5 g (tan. całwść} li. ponadto otrzymamy 37.6 g czystego związku A».

Rozpuszczalnik używany do krystalizacji powinien posiadać następujące cechy: *) dużą zdolność rozpuszczenia krystalizowane) substancji na gorąco i stosunkowa niewielką w temperaturze pokojowej lub pa-niżej lej temperatury, bj powinien rozpuszczać zanieczyszczenia bardzo dobrze lub rozpuszczać Je tylko w bardzo nieznacznym stopniu, ej sprzyjać wytwarzaniu debrze wykształconych kryazUlćw oczyszczanego związku oraz a) powinien łr/ć łatwy do usunięcia z Ich powierzchni, a więc mieć względnie niską temperaturę wrzenia. Rozpuszczalnik nie i moż« oczywiście reagować chemiczni* z substancją oczyszczaną! Jeśli *marny dwa rozpuszczalniki nadające się w Jednakowym stopniu do krystalizacji danej sirbatancji. lo o wyborze rozpuszczalnika decydują ostatecznie takie czynniki, jok łatwość manipulacji, zopalr.cść i cena.

Najczęściej stosowane do krystalizacji rozpuszczalniki podano w tabl. 11.27.

TABLICA IX.CZ.    - nOZTUSZCZAI-NlKI

NAJCUtSOICJ KTOSOWANR DO KRYSTALIZACJI

Rr.2p*jjxci«lr»i::

Tm

CC)

i

Uwagi

Woj i Mrhwłin)

lnu

•losowa! fr.rClłwit r.i; ri-tclej

Wir ttj-kmry

1

»

)»twc upalny, o l!e motnoicl unikał

Aceton

aa

łatwo runakiy, należy <«us!> i

prtti! użyciem

Chloroform

•u

niepalny; rwy truiąt*

A U obuł motykwy

W.Ś

polny; trująry

CileiwhlOłek wą()a

Tl

niepalny; p*ry trujące

OcImi etylu

Prwmyslowy alkohol etylowy

palny

skalony metylowym

77—12

pilny

Alkohol •tykwy’ S5-pror

7ti

pilny

Alkohol etylowy Ibetwolr.y!

70

palny

B«rzen

no

palny

i Rtei iinfUmy

M-M

palny

| Kwu octowy lodowaty

118

nWzŁyl pcOny. pary dusrące

.laxo rozpuszczalnika do krystalizacji w miarę możciości nie należy używać eteru. Częściowo z powodu jego łatwej palności, a częściowo z powodu skłonności do wypełzania na ścianki naczynia, co powoduje wydzielanie się substancji slalej przez całkowite odparowanie zamiast przez krystalizacją. Należy także unikać używania, dwusiarczku węgla, iw, 4fl4, gdyż ma on niebezpiecznie niską tempcraluię samorzutnego zapłonu ł tworzy z. powietrzem mieszaniny silnie wybuchowe.

•I    n- łr.łiny rwy tir *»l l)5ł« obecnych itr Ircryiccjek tnl liii icrputecu:.

nolt: vt rii|-l4K>alnl:<u ulylyrr do kryiUtlir|!.    nlr    my w «*.'*> Uk    KI

Iliad, IV- Un>i>)><«'"' (łionly * jeiiin u    »j. < • -<li>|ą: morl iKn «

w«»n fcryiltlltrwr ■ tnt ciil* Minwi)r/i( rnriwor sm•• nntunku ói tua-•tnnejl Uyti.lc) rcrriMiłilnt). - wlec w lli*’.r.tli Hj nnlni/irin*, * lakteio rniiwrej

KSCMI i .-i ioni* Jcry>i*ll> ;)■ w»tt- mmii* firoSukl m»I«»z»:»ny. KvnyiliMl)nv Ku t,    t«' lOJinmainli rorpuirnuli    snb«i»n:.'i Uriliiąwcal

I 111! lvm kum. Mdnnll nilely n III n.lircłti IlUlIt! [«>f>--u:«iI>iII: (R«yf. UumJ.

I


Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
gora 2 bmp 6H TECHNIKA LABOHATOHYJHA 11.5. 6H TECHNIKA LABOHATOHYJHA 11.5. i1>.«Homi:
gora 3 bmp 0(1 TECHNIKA LABORATORYJNA 11.5. Ryj. 51.4.3 manę półkola służą jako przykrywa łaźni powi
Focia021 DA, A w tri grupa bSPRAWDZIAN OBIDMDMCY W.ADOMOSC. Z ĆWICZEŃ LABORATORYJNY, 11 Z CHEMII
KOBIETY (WOMEN) 11.09.2010 17:51:27 datasport.pl Wyniki: DATASPORT sport@dalasporl.pl. Marek Zielińs
Skanowanie 11 01 17 06 (27) BBUBI 97.    (.i) Pm widio w. i (b)    Bł
075 CWICZENIE ĆWICZENIE LABORATORYJNE 11 Badanie cech geometrycznych reduktora Bogusław MachowskiCe
Status 1 2 bmp DB11 QB< IB) 11 OBI łllłiOBlBllBlliOHDlDEBlHlOlBłi BB11 i BBDCOi 1 BI BB i 1
Znaki rozpoznawcze bmp O Ul 1---1 +
jvc2500 Góra 1 5 6 10 UUUUU UUUUU nnnnnnnnnnnnnn 11 24
Laboratorium 11.5.1 Podstawowa konfiguracja urządzeń Cisco Kurs CCNA Exploration Podstawy sieci
Laboratorium 11.5.1 Podstawowa konfiguracja urządzeń Cisco Kurs CCNA Exploration Podstawy sieci
Laboratorium 11.5.1 Podstawowa konfiguracja urządzeń Cisco Kurs CCNA Exploration Podstawy sieci
Laboratorium 11.5.1 Podstawowa konfiguracja urządzeń Cisco Kurs CCNA Exploration Podstawy sieci
Laboratorium 11.5.1 Podstawowa konfiguracja urządzeń Cisco Kurs CCNA Exploration Podstawy sieci
Laboratorium 11.5.1 Podstawowa konfiguracja urządzeń Cisco Kurs CCNA Exploration Podstawy sieci
Laboratorium 11.5.1 Podstawowa konfiguracja urządzeń Cisco Kurs CCNA Exploration Podstawy sieci
Laboratorium 11.5.1 Podstawowa konfiguracja urządzeń Cisco Kurs CCNA Exploration Podstawy sieci
Laboratorium 11.5.1 Podstawowa konfiguracja urządzeń Cisco Kurs CCNA Exploration Podstawy sieci

więcej podobnych podstron