PANCAKE REACTOR
INPUT
GASES
Umożliwia precyzyjną kontrolę grubości i właściwości szerokiego spektrum warstw epitaksjalnych
Może być łatwo skalowana (Laboratorium-aplikacje przemysłowe) Osadzanie QD, QWires, QWells, ostrych interfejsów, heterostruktur z modulacją poziomu domieszkowania (modulation-doped heterostructures)
Alternatywne prekusory metaloorganiczne zamiast silnie trujących źródeł gazowych
Praca w zakresie AP i LP umożliwia zwiększenie wydajności W odróżnieniu od MBE gdzie proces wzrostu jest kontrolowany tylko temperaturą i kinetyką strumieni molekuł w MOVPE oprócz doboru temperatury i prekursorów molekuł można kontrolować ciśnienie w rektorze oraz skład atmosfery gazowej w reaktorze
• Osadzanie warstw epitaksjalnych związków podwójnych, potrójnych, poczwórnych oraz pięcioskładnikowych półprzewodników AIIIBV i AIIBVI w tym GaAs, GaN, AlAs, InP AlGaAs, InGaAs, AlGalnAsN do zastosowań przyrządowych oraz do badań podstawowych
• MOVPE jest najważniejsza badawczą i przemysłową techniką wytwarzania przyrządów elektronicznych i optoelektronicznych
• Osadzanie heterostruktur i supersieci
GaAUnP/GaAs
GaAlAs/GaAs
GalnAs/GaAs
GalnAsP/InP
GaInAs/InP(strained)
GalnAsSb/
AlGaAsSb/GaSb
1600-2000. ran
i 2000 - 4000 nm