347 (23)
Technologia i konstrukcja tranzystorów bipolarnych,
Rys. 5.75
Wykres zależności Pa(Tc) (a); sohemat elektryczny równoważny wyrażeniom (5.229) i (5.230)
(b)
dowa); — tzw. własny opór cieplny, czyli opór cieplny na drodze od
struktury półprzewodnikowej do zewnętrznych ścianek obudowy.
Temperatura TJmax wynosi dla krzemu 150...200°C (jest to temperatura, przy której koncentracja nośników samoistnych staje się porównywalna z koncentracją, domieszek, czyli jest ona tym większa, im większa jest szerokość pasma zabronionego półprzewodnika i koncentracja domieszek). Jeżeli zapewni się temperaturę obudowy równą temperaturze otoczenia (ok. 20°C), to ze wzoru (5.229) uzyska się Pa x 10 W przy Rthj_c « 15°C/W. Ponieważ istnieje pewien opór cieplny między obudową a otoczeniom (oznaczymy go Rthc_a), zatem w rzeczywistości moc admisyjna jest mniejsza
T- —T
pa = J 7 (5.230)
Rfh
przy czym: Ta — temperatura otoczenia (indeks a od ang. ambient); Rth — całkowity opór cieplny równy (Rthj-c+^lhc_a).
Zwykle jednak korzysta się ze wzoru (5.229) z uwagi na trudności w- wyznaczaniu oporu R,hc~a- Dąży się przy tym, by Tc x Ta, co uzyskuje się przez stosowanie radia-
Rys. 5.76
Typowe obudowy tranzystorów mocy
Wyszukiwarka
Podobne podstrony:
349 (23) - 349 Technologia i konstrukcja tranzystoróio bipolarnych grzebieniowa (rys. 5.77a) oraz „o272 (42) - 272 Tranzystor bipolarny Rys. 5.28 Model Eborsa-Molla o zwiększonej dokładności Charakter341 (28) - 341Technologia i konstrukcja tranzystorów bipolarnych Należy zauważyć, że gb-c można równ343 (25) - 343Technologia i konstrukcja, tranzystorów bipolarnych promieniście ocl pierścienia elekt345 (25) - 345Technologia i konstrukcja tranzystorów bipolarnych szumów. Składnik III jest pomijalniskanuj0005 71 Zadanie 3.36 Zmierzono parametry [h] tranzystora bipolarnego w punkcie pracy IB = 20 p16879 OMiUP t2 Gorski7 Rys. 5.94. Wykres zależności ilości wody doprowadzonej do wy paro wnika od jSDC13002 stawiono to rys. 7.6 w postaci wykresu zależności prędkości obrotowej silnika od uchybu kątstronaD 44 Rys. 31 Wykres zależności współczynnika zawartości harmonicznych od wartości międzyszczyt304 305 (10) - 304- Rys. II—20. Wykres zależności między promieniem karbu zastępczego p x, wytrzymałTwardościomierz stopnie odczytu 1 Rys.02 Wykres zależności pomiędzy Min. Grubością próbki a wartośTwardościomierz stopnie odczytu 2 Rys.03 Wykres zależności pomiędzy min. grubością próbki a wartośRys. 11. Wykres zależności odkształceń od siły 5. Podsumowanie Wykres przedstawiony na rysunku 11.DSCN3876 Zespoły jMapędowh Rys. 111. Wykres zależności napięcia potrzebnego do powstania Iskrywięcej podobnych podstron