Surowce wyjściowe w formie ciekłej dozowane do palnika plazmowego
Przejście w stan pary (SiCl^ TiCl4, GeCl4)
4
Reakcje w fazie gazowej (hydrolizy lub utlenienia):
SiCl4 + 2H20 -^Si02+4HC1
SiCl4 + 02 T SiO, + 2C1,
sadzanie par produktów reakcji (Si02) na zimnym łożu (zeszklenie) - warstwy amorficzne, włókna światłowodowe.