1148441930

c.d. tabeli 5.

Nazwa technologii/procesu	Rodzaj i parametry procesu	Zastosowanie procesu, inne uwagi
	absorpcja chemiczna, roztwór absorpcyjny: 30% MEA. środek przeciwspieniający. anty utleniacz, inhibitor korozji. zakres temp. absorpcja 43-71°C. desorpcja: 96-121°C, zakres ciśnień: ~1.38MPa. gas surowy: H;S 15%, CO, 6%, COS 60 ppm. gaz oczyszczony: H,S<I ppm. CO;<0.1%,	oczyszczanie gazu syntezowego, gazu ziemnego: usuwane składniki gazu: H2S, C02: proces nieselekty wny - jednoczesne usuwanie ditlenku węgla i siarkowodoru; degradacja rozpuszczalnika z. utworzeniem związków polimerowy ch:
MDEA”-^59-^70' (Dow Chemical Company i Union Carbide Corporation)	absorpcja chemiczna roztwór absorpcy jny: 30-55% MDEA zakres temp. absorpcja 27-49°C, desorpcja: 110-130°C (dól), 90-!00°C (góra) zakres ciśnień: —1.38 MPa gaz oczyszczony: H;S~-(3-50) ppm. CO, ~5-50 ppm.	oczyszczanie gazu syntezowego, gazu do produkcji amoniaku, gazu ziemnego; usuwane składniki gazu: H2S, C02, HC1; częściowa aktywność względem C02. brak aktywności względem COS: wysoka wydajność usuwania H2S: niskie straty aminy: mała korozyjność: tendencja do tworzenia piany przy' wysokich stężeniach aminy: niskie zuży cie energii w procesie regeneracji rozpuszczalnika;
aMDEA ^7I~”> (BASF Corporation)	absorpcja chemiczna, roztwór absorpcyjny: .35% MDEA. 15% mas. MEA. gaz oczyszczony: H;S<I ppm. CO2<50 ppm.	oczyszczanie gazu ziemnego, gazu syntezowego, usuwane składniki gazu: H2S, C02, HC1: niskie straty aminy: mała korozyjność: niskie zużycie energii w procesie regeneracji, rozpuszczalnika:
ADIP^71-^711(Shell)	absorpcja chemiczna. roztwór absorpcy jny : DIPA. (diizopropanoloamina) i MDEA, zakres temp. 25-60°C, zakres ciśnień: 0,1-15 MPa. gaz surowy: H;S~10%, C02~2,5%, gaz oczyszczony: H;S~2 ppm. C02~0,2%,	oczyszczanie gazu ziemnego, rafineryjnego, syntetycznego oraz węglowodorów ciężkich: usuwane składniki gazu: H2S, C02, COS; wysoka selektywność procesu względem H2S w obecności C02: niskie zużycie energii w procesie regeneracji rozpuszczalnika: możliwość stosowania aparatury ze stali węglowej:
SNEA-DEA”’-^7576'	absorpcja chemiczna. roztwór absorpcyjny: dietanoloamina 25-30% DEA. gaz oczyszczony: H2S<3 ppm. C02<500 ppm.	oczyszczanie gazu ziemnego o wysokim stężeniu składników kwaśnych: usuwane składniki gazu: C02, H2S: regeneracja aminy w procesie destylacji próżniowej: degradacja aminy z tworzeniem żrących produktów: niska korozyjność aminy:
Benfield^30 ”■^77'^791(UOP)	absorpcja chemiczna. roztwór absorpcyjny: gorący wodny roztwór węglanu potasu (30%). aktywator, inhibitor korozji. zakres temp. 33-86°C, zakres ciśnień: 1,03-12,4 MPa. gaz surowy: 5-35% składników kwaśnych, gaz oczyszczony: C02 kilkaset ppmv-klika %, H2S<lppm.	oczyszczanie gazu ziemnego, gazu syntezowego do produkcji amoniaku, wodoru, tlenku etylenu: oczyszczanie gazu charakteryzującego się zarówno wysokim jak i niskim stężeniem składników kwaśnych: usuwane składniki gazu: C02, H2S, COS i CS2; korozja aparatury:
Fle.\sorb ^M-^35- ^m~^8!> (Exxon Research and Engineering Company)	absorpcja chemiczna. roztwór absorpcy jm^1: roztwór Flexsorb (aminy z przestrzennie rozbudowanymi podstawnikami). zakres ciśnień: 3,4-8.2 MPa. zakres temp. 27-49°C. gaz surowy: H2S 1,4-39% mol. gaz oczyszczony: H2S<10 ppm. CO2<0,2%.	oczyszczanie gazu ziemnego, gazu syntezowego, rafineryjnego, gazy resztkowego z instalacji Claus: Flexsorb SE - selektywne usuwanie H;S w obecności C02. Flexsorb SE Plus - selektywne usuwanie H,S do poziomu 10 ppm. Flexsorb SE Hybryd - usuwanie H;S, C02 i związków' siarki: niskie zużycie energii w procesie regeneracji rozpuszczalnika: wysoka efektywność procesu: mała korozyjność. niski poziom spieniania:
Amisol^,!'^3S■^!M4,(Luigi GmbH)	jednoczesna absorpcja fizyczna i chemiczna. roztwór absorpcyjny': mieszanina metanolu i alkanoloamin (MEA. DEA. DIPA. DĘTA). zakres temp. 32-100°C, zakres ciśnień: >1 MPa. gaz surowy : składniki kw aśnie 6-7%, gaz oczyszczony: H2S<0.I ppm. C02<5 ppm.	oczyszczanie gazów po procesie zgazowania węgla, gazu ziemnego, torfu, olei ciężkich; usuwane składniki gazu: C02. H2S. COS i organiczne związki siarki:

238

93/2(2014)