Nr 23 (858) 2006 BIULETYN URZĘDU PATENTOWEGO
Ca; 0,1-2,5% Al; do 6,0% Mn; do 2,0% Ba; do 6,0% Zr; do 2% Sr i resztę Fe, dodaje się 1-8 części wagowych azotanu sodowego lub potasowego, 1-8 części wagowych spoiwa, korzystnie szkła sypkiego zawierającego w swoim składzie powyżej 50% wagowych Si02 i resztę stanowiącą mieszaninę Al203, B203, CaO, K20, Na20, ZnO, MgO, o dylatometrycznej temperaturze mięknienia najkorzystniej 800-900°C, miesza się, formuje się kształtki i poddaje się je suszeniu w temperaturze 100 do 120°C, a następnie spiekaniu w temperaturze 800-1200° C przez okres 4-10 minut.
(I zastrzeżenie)
Al (21) 374886 (22) 2005 05 06 8(51) C23C14/34
(71) Politechnika Łódzka
Instytut Inżynierii Materiałowej, Łódź
(72) Mitura Stanisław, Niedzielski Piotr, Gawroński Jakub, Niedzielska Agata, Śliwiński Janusz, Strojek Marcin, Szymanowski Hieronim, Gazicki-Lipman Maciej
(54) Sposób wytwarzania kompozytowych powłok NCD/Ca-P na podłożach metalicznych stosowanych w medycynie i weterynarii wytwarzanych metodą plazmową
(57) Sposób wytwarzania kompozytowych powłok NCD/Ca-P na podłożach metalicznych stosowanych w medycynie i weterynarii wytwarzanych metodą plazmową, prowadzony w dwóch etapach wytwarzania na powierzchni podłoża implantu warstwy nanokrystalicznego diamentu i warstw hydroksyapatytowych, charakteryzuje się tym, że implant umieszcza się na elektrodzie wysokiej częstotliwości komory próżniowej reaktora plazmowego, po czym do elektrody doprowadza się energię o częstotliwości 13,56 MHz i wprowadza się do komory gaz węglonośny, przepływający z natężeniem od 10 do 90 sccm tak, aby ciśnienie w komorze wynosiło od 10 do 80 Pa, przy ujemnym potencjale autopola-ryzacji elektrody wysokiej częstotliwości nie mniejszym niż 400 V. W tych warunkach utrzymuje się implant w czasie nie krótszym niż 2 minuty i nie dłuższym niż 30 minut. Następnie zmniejsza się dopływ gazu węglonośnego aż do całkowitego zamknięcia zaworów i ogranicza się ujemny potencjał autopolaryzacji do poziomu od 50 do 150 V. Jednocześnie wpuszcza się do komory tlen o natężeniu przepływu w zakresie od 1 do 10 sccm. Takie parametry utrzymuje się przez czas 1 do 10 minut. Następnie zmniejsza się dopływ tlenu do komory i rozpoczyna się nakładanie warstw wapnia i fosforu.
(5 zastrzeżeń)
Al (21) 379760 (22) 2004 07 26 8(51) C25C1/12
(31) 03 629497 (32) 2003 07 28 (33) US
(86) 2004 07 26 PCT/US04/24162
(87) 2005 0210 W005/012597 PCT Gazette nr 06/05
(71) PHELPS DODGE CORPORATION, Phoenix, US
(72) Sandoval Scot P., Robinson Timothy G., Cook Paul R. (54) Sposób i urządzenie do elektrolitycznego
otrzymywania miedzi,
wykorzystujące anodową reakcję Fe2+ /Fe3+
(57) Niniejszy wynalazek dotyczy ogólnie sposobu i urządzenia do elektrolitycznego otrzymywania metali, a bardziej szczegółowo sposobu i urządzenia do elektrolitycznego otrzymywania miedzi wykorzystujących anodową reakcję Fe2+/Fe3ł. Ogólnie, zastosowanie przepływowej anody sprzężonej z efektywnego układu obiegu elektrolitu umożliwia efektywną i ekonomiczną pracę układu do elektrolitycznego otrzymywania miedzi, wykorzystującego anodową reakcję Fe2+/Fe3+, przy całkowitym napięciu elektrolizera niższym niż 1,5 V oraz gęstościach prądu większych niż 280 A/m2 oraz redukuje wytwarzanie mgiełki kwasowej. Ponadto, zastosowanie takiego układu pozwala na wykorzystanie niższych stężeń jonów Fe2ł i zoptymalizowanych, w porównaniu do układów ze stanu techniki, szybkości przepływu elektrolitu, przy równoczesnym wytwarzaniu produktu o wysokiej jakości i gotowego do sprzedaży (tj. katody miedzianej, gatunek A-LME (Londyńska Giełda metali) albo równoważnika), co jest korzystną cechą wynalazku.
(20 zastrzeżeń)
DZIAŁ D
WŁÓKIENNICTWO I PAPIERNICTWO
Al (21) 379807 (22) 20041015 8(51) D21F 3/02
(31) 03 0302767 (32) 2003 1021 (33) SE
03 60517830 2003 11 06 US
(86) 2004 1015 PCT/SE04/01485
(87) 2005 04 28 W005/038129 PCT Gazette nr 17/05
(71) M ETSO PAPER KARLSTAD AB, Karlstad, SE
(72) Gustavsson Tord Gustav
(54) Korpus podporowy, obsada korpusu, urządzenia z korpusem podporowym do obróbki wstęgi, sposób kształtowania obszaru dociskowego chwytu i kontrolowania docisku w obszarze dociskowego chwytu w urządzeniach oraz zastosowanie korpusu podporowego (57) Wynalazek dotyczy korpus podporowego (7) urządzeń mających obszar oddalonego chwytu ciśnieniowego (N) wyznaczającego powierzchnię kontaktową (13) tego korpusu z przeciwległą powierzchnią dociskową (4), który ma elastycznie odkształcają powierzchnię kontaktową w stosunku do współpracującej